| 研究課題/領域番号 |
23560428
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
電子デバイス・電子機器
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| 研究機関 | 大島商船高等専門学校 |
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研究代表者 |
高橋 主人 大島商船高等専門学校, その他部局等, 教授 (80517095)
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2013
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2013年度: 260千円 (直接経費: 200千円、間接経費: 60千円)
2012年度: 780千円 (直接経費: 600千円、間接経費: 180千円)
2011年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
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| キーワード | 微粒子除去 / 異物低減 / 静電吸着 / ドライ洗浄 / 静電気力 / 異物除去 / 付着力 / 微粒子 |
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| 研究概要 |
半導体製造装置に使用される部品に付着している微粒子の除去は、半導体製造にとって重要な技術である。本研究では、静電気力を利用して微粒子を誘電体フィルムに付着させて回収する清浄化技術の基礎特性を評価した。異物が付着した模擬試料として、ガラス球（直径２μm以上）をシリコンウエハ表面上に付着させたものを作成した。試料にポリエチレンおよびポリ塩化ビニルフィルムをかぶせ、その上にシリコン電極を置き、試料と電極間に所定の高電圧を印加する。高電圧を切断した後にフィルムを剥がすと、微粒子がフィルムに付着して回収される。５回の繰り返し除去操作で、２μm以上の微粒子の約８０％以上を除去することができた。
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