| 研究課題/領域番号 |
23560807
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
無機材料・物性
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| 研究機関 | 神奈川工科大学 |
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研究代表者 |
伊熊 泰郎 神奈川工科大学, 工学部, 教授 (10159593)
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| 連携研究者 |
丹羽 紘一 神奈川大学, 工学部, 非常勤講師 (80468892)
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2013
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
5,330千円 (直接経費: 4,100千円、間接経費: 1,230千円)
2013年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2012年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2011年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
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| キーワード | 光触媒 / 有機酸の分解 / 面方位依存性 / 表面多重溝 / 表面Ｘ線回折 / 酸化チタン単結晶 / 多重溝 / 面方位 / 酸化チタン / 表面構造 |
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| 研究概要 |
酸化チタンの光触媒活性は通常、バンド理論で説明される。しかし、光触媒表面の酸素原子などが関与する場合、光触媒の表面状態も重要である。本研究ではルチル型酸化チタン単結晶の表面状態（表面酸素欠陥など）とその光触媒活性の関係について知るため、(1)研磨したままの表面の光触媒活性の面方位依存性、(2)研磨面への各種処理が光触媒活性や濡れ性に及ぼす影響、(3)酸化チタン(001)面の表面構造解析などを行った。その結果、ルチル型酸化チタンでは(001)面が一番高活性であること、加熱処理などで活性が低下すること、これを活性状態へ戻すにはある特定方位に多重溝を導入する必要があることなどを見出した。
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