| 研究課題/領域番号 |
23560874
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 兵庫県立大学 |
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研究代表者 |
小舟 正文 兵庫県立大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (90240960)
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| 連携研究者 |
藤澤 浩訓 兵庫県立大学, 大学院工学研究科, 准教授 (30285340)
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2013
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2013年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2012年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2011年度: 2,210千円 (直接経費: 1,700千円、間接経費: 510千円)
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| キーワード | 薄膜プロセス / 非平衡プロセス / 界面制御 / 微細加工 / 強誘電体 / ナノプレート / ナノ材料 |
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| 研究概要 |
高温スパッタ法によりNb:TiO2(101) (Nb = 0.79 mass%)基板上に膜厚約3μmのBi3.25Nd0.75Ti3O12 (BNT-0.75)及びBi3.25Nd0.75-xEuxTi3O12 (BNEuT, x = 0-0.75)薄膜の作製を行い、ナノプレート構造体作製のための至適なスパッタ諸条件 (過剰Bi2O3量、基板加熱温度、ガス圧及び有効電力密度)を明らかにした。作製したビスマス層状構造強誘電体ナノプレートの物性評価を詳細に行い、当該材料が強誘電・圧電・マルチフェロイック応用に有望であることを実証した。
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