| 研究課題/領域番号 |
23560894
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
金属生産工学
|
|---|
| 研究機関 | 九州工業大学 |
|---|
研究代表者 |
高須 登実男 九州工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (20264129)
|
|---|
| 研究分担者 |
伊藤 秀行 九州工業大学, 工学研究院, 助教 (90213074)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2011 – 2013
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
|
| 配分額 *注記 |
5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円)
2013年度: 390千円 (直接経費: 300千円、間接経費: 90千円)
2012年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
2011年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
|
|---|
| キーワード | 銅電解 / 電解液流動 / 分極制御 / 高電流密度 / 電解精製 / モデル化 / 銅製錬 / 不純物 |
|---|
| 研究概要 |
銅電解精製では生産性の向上のために高電流密度化が求められており、電極表面での物質移動の制御が重要であると考えられる。電解には多くの因子が相互に影響しており、物質移動が明確な条件で系統的なデーターを取得することが有効と考えられる。小型で制御が容易なRDE(回転ディスク電極)装置を用いて、流動が電解挙動に及ぼす影響を調査した。電流密度を上げると分極が大きくなり、析出が粗くなったが、回転数を上げることで分極を低下させ、析出を平滑にできることを示した。高電流密度では流動下においても不純物によって電位は影響を受けた。ニカワを入れることで流動下であっても分極は増加し、電極表面が平滑となった。
|
