| 研究課題/領域番号 |
23560912
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(C)
|
| 配分区分 | 基金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
化工物性・移動操作・単位操作
|
|---|
| 研究機関 | 九州工業大学 |
|---|
研究代表者 |
山村 方人 九州工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (90284588)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
2011 – 2013
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
|
| 配分額 *注記 |
5,200千円 (直接経費: 4,000千円、間接経費: 1,200千円)
2013年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2012年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2011年度: 3,380千円 (直接経費: 2,600千円、間接経費: 780千円)
|
|---|
| キーワード | 塗布膜 / コーティング / 相分離 / 乾燥促進 / 高分子溶液 / 蛍光イメージング / 非平衡熱力学 |
|---|
| 研究概要 |
互いに溶け合わない高分子成分を共通溶媒に溶解させた高分子ブレンド液体薄膜から溶媒を揮発させ固体フィルムを形成させる過程において、高分子成分の自発的分離によって生じた相界面が溶媒乾燥を促進または抑制させることを見出した。精密な質量・蛍光強度同時測定を駆使した実験結果より、乾燥促進は相分離速度がある臨界値よりも低い場合に生じること、促進時には相界面に溶媒集積層が形成されることを初めて明らかにした。
|
