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反応プロセスを対象とした自動研究開発システムの開発

研究課題

研究課題/領域番号 23560919
研究種目

基盤研究(C)

配分区分基金
応募区分一般
研究分野 反応工学・プロセスシステム
研究機関静岡大学

研究代表者

高橋 崇宏  静岡大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (50324330)

研究期間 (年度) 2011 – 2013
研究課題ステータス 完了 (2013年度)
配分額 *注記
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2013年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2012年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2011年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
キーワード化学気相堆積法 / CVD / 実数値遺伝的アルゴリズム / Bio-inspired algorithms / 反応機構 / モデリング / 自動化 / 微細加工 / 反応工学 / 遺伝的アルゴリズム / バイオインスパイアードアルゴリズム / 化学気相成長法
研究概要

本研究では、半導体デバイスの製造等に用いられるCVDプロセスを対象とし、研究開発の高速化、省力化を目的として、CVD装置内部における反応機構の解析やモデル化を、人手を介さず自動的に行うシステムの開発を行った。システムの能力の向上のため、自動解析工程の根幹をなす最適化アルゴリズムの探索・評価を行い、実数値遺伝的アルゴリズムから有望な候補を発見することに成功した。そして、システム全体の解析精度と計算速度を向上することができた。また、実用的に用いられる複雑な構造を持つCVD反応装置をシステムに適用するためにCFDシミュレーターと本システムを連動する仕組みを考案し、実装・評価した。

報告書

(4件)
  • 2013 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2012 実施状況報告書
  • 2011 実施状況報告書
  • 研究成果

    (26件)

すべて 2014 2013 2012 2011

すべて 雑誌論文 (8件) (うち査読あり 8件) 学会発表 (18件)

  • [雑誌論文] A Calculation Method of Deposition Profiles in CVD Reactors Using Genetic Algorithms2013

    • 著者名/発表者名
      T. Takahashi, K. Kawamura, K. Takahashi and Y. Ema
    • 雑誌名

      Physics Procedia

      巻: Volume 46 ページ: 219-229

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Development of the Automatic Modeling System for Reaction Mechanisms Using REX+JGG2013

    • 著者名/発表者名
      T. Takahashi, K. Kawai, H. Nakai and Y. Ema
    • 雑誌名

      Physics Procedia

      巻: Volume 46 ページ: 239-247

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] A Calculation Method of Deposition Profiles in CVD Reactors Using Genetic Algorithms2013

    • 著者名/発表者名
      Takahiro Takahashi, Ken Kawamura, Kazuya Takahashi and Yoshinori Ema
    • 雑誌名

      Physics Procedia

      巻: 46 ページ: 219-229

    • DOI

      10.1016/j.phpro.2013.07.058

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Development of the Automatic Modeling System for Reaction Mechanisms Using REX+JGG2013

    • 著者名/発表者名
      Takahiro Takahashi, Kohei Kawai, Hiroyuki Nakai and Yoshinori Ema
    • 雑誌名

      Physics Procedia

      巻: 46 ページ: 239-247

    • DOI

      10.1016/j.phpro.2013.07.060

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] An Automatic System Using Mobile-Agent Software to Model the Calculation Process of a Chemical Vapor Deposition Film Deposition Simulator2011

    • 著者名/発表者名
      T. Takahashi, N. Fukui, M. Arakawa, K. Funatsu, Y. Ema
    • 雑誌名

      J. Nanosci. Nanotechnol.

      巻: Volume 11, Issue 9 ページ: 8004-8008

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] An Automatic Modeling System of the Reaction Mechanisms for Chemical Vapor Deposition Processes Using Real-Coded Genetic Algorithms2011

    • 著者名/発表者名
      T. Takahashi, H. Nakai, H. Kinpara, Y. Ema
    • 雑誌名

      J. Nanosci. Nanotechnol.

      巻: Volume 11, Issue 9 ページ: 8044-8048

    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] An Automatic System Using Mobile-Agent Software to Model the Calculation Process of a Chemical Vapor Deposition Film Deposition Simulator2011

    • 著者名/発表者名
      Takahiro Takahashi, Noriyuki Fukui, Masamoto Arakawa, Kimito Funatsu, Yoshinori Ema
    • 雑誌名

      Journal of Nanoscience and Nanotechnology

      巻: Vol. 11 号: 9 ページ: 8004-8008

    • DOI

      10.1166/jnn.2011.5104

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] An Automatic Modeling System of the Reaction Mechanisms for Chemical Vapor Deposition Processes Using Real-Coded Genetic Algorithms2011

    • 著者名/発表者名
      Takahiro Takahashi, Hiroyuki Nakai, Hiroki Kinpara, Yoshinori Ema
    • 雑誌名

      Journal of Nanoscience and Nanotechnology

      巻: Vol. 11 号: 9 ページ: 8044-8048

    • DOI

      10.1166/jnn.2011.5101

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] An Automatic Modeling System of the Reaction Mechanisms for Chemical Vapor Deposition Processes Using Bio-Inspired Algorithms2014

    • 著者名/発表者名
      T. Takahashi, M. Arakawa, Y. Ema
    • 学会等名
      NanoEnergy 2014
    • 発表場所
      University College London (London, UK)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] An Automatic Modeling System for the Reaction Mechanisms of Chemical Vapor Deposition Processes Using Bio-Inspired Algorithms2014

    • 著者名/発表者名
      Takahiro Takahashi, Masamoto Arakawa and Yoshinori Ema
    • 学会等名
      NanoEnergy 2014
    • 発表場所
      University College London (London, UK)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] バイオインスパイアードアルゴリズムを用いた化学気相堆積プロセスにおける反応機構自動解析システムの開発2013

    • 著者名/発表者名
      高橋崇宏, 阿部浩士, 荒川正幹, 江間義則
    • 学会等名
      第36回情報化学討論会
    • 発表場所
      筑波大学(茨城県つくば市)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] 実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVD装置における成膜速度分布の計算方法(3)2013

    • 著者名/発表者名
      高橋崇宏, 稲垣妙香, 成合真吾, 児玉純一, 荒川正幹, 江間義則
    • 学会等名
      第36回情報化学討論会
    • 発表場所
      筑波大学(茨城県つくば市)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] Bio-inspiredアルゴリズムを用いた反応機構自動解析システムの開発と評価2013

    • 著者名/発表者名
      高橋崇宏, 阿部浩士, 荒川正幹, 江間義則
    • 学会等名
      化学工学会第45回秋季大会
    • 発表場所
      岡山大学(岡山県岡山市)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] GAを用いたCVDの成膜速度分布に関する計算アルゴリズムの開発と評価(2)2013

    • 著者名/発表者名
      高橋崇宏, 河村健, 長谷部恭弘, 江間義則
    • 学会等名
      化学工学会第45回秋季大会
    • 発表場所
      岡山大学(岡山県岡山市)
    • 関連する報告書
      2013 研究成果報告書
  • [学会発表] 実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVD装置における成膜速度分布の計算方法(3)2013

    • 著者名/発表者名
      高橋崇宏、稲垣妙香、成合真吾、児玉純一、荒川正幹、江間義則
    • 学会等名
      第36回情報化学討論会
    • 発表場所
      筑波大学 (茨城県つくば市)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] バイオインスパイアードアルゴリズムを用いた化学気相堆積プロセスにおける反応機構自動解析システムの開発2013

    • 著者名/発表者名
      高橋崇宏、阿部浩士、荒川正幹、江間義則
    • 学会等名
      第36回情報化学討論会
    • 発表場所
      筑波大学 (茨城県つくば市)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Bio-inspiredアルゴリズムを用いた反応機構自動解析システムの開発と評価2013

    • 著者名/発表者名
      高橋崇宏、阿部浩士、荒川正幹、江間義則
    • 学会等名
      化学工学会第45回秋季大会
    • 発表場所
      岡山大学 (岡山県岡山市)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] GAを用いたCVDの成膜速度分布に関する計算アルゴリズムの開発と評価 (2)2013

    • 著者名/発表者名
      高橋崇宏、河村健、長谷部恭弘、江間義則
    • 学会等名
      化学工学会第45回秋季大会
    • 発表場所
      岡山大学 (岡山県岡山市)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Development of the automatic modeling system for reaction mechanisms using REX+JGG2013

    • 著者名/発表者名
      Takahiro Takahashi, Kohei Kawai, Hiroyuki Nakai and Yoshinori Ema
    • 学会等名
      EuroCVD 19
    • 発表場所
      Riviera Hotel (Varna, Bulgaria)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] A calculation method of deposition profiles in CVD reactors using genetic algorithms2013

    • 著者名/発表者名
      Takahiro Takahashi, Ken Kawamura, Kazuya Takahashi and Yoshinori Ema
    • 学会等名
      EuroCVD 19
    • 発表場所
      Riviera Hotel (Varna, Bulgaria)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] REX+JGGを用いた反応機構自動解析システムの評価と改善2012

    • 著者名/発表者名
      高橋崇宏,河合晃平,中井寛之,金原宏樹,江間義則
    • 学会等名
      化学工学会第44回秋季大会
    • 発表場所
      東北大学(宮城県)
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] GAを用いたCVDの成膜速度分布に関する計算アルゴリズムの開発と評価2012

    • 著者名/発表者名
      高橋崇宏,河村健,長谷部恭弘,稲垣妙香,高橋和也,江間義則
    • 学会等名
      化学工学会第44回秋季大会
    • 発表場所
      東北大学(宮城県)
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] REX+JGGを用いたCVDプロセスの反応機構自動解析システムの開発2012

    • 著者名/発表者名
      高橋 崇宏,河合 晃平,中井 寛之,金原 宏樹,江間 義則
    • 学会等名
      第35回情報化学討論会
    • 発表場所
      広島大学(広島県)
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] 実数値遺伝的アルゴリズムを用いたCVD装置における成膜速度分布の計算方法(2)2012

    • 著者名/発表者名
      高橋 崇宏,長谷部 恭弘,稲垣 妙香,成合 真吾,江間 義則
    • 学会等名
      第35回情報化学討論会
    • 発表場所
      広島大学(広島県)
    • 関連する報告書
      2012 実施状況報告書
  • [学会発表] An Automatic System Using Mobile-agent Software to Model the Calculation Process of a CVD Film Deposition Simulator2011

    • 著者名/発表者名
      Takahiro Takahashi, Noriyuki Fukui, Masamoto Arakawa, Kimito Funatsu and Yoshinori Ema
    • 学会等名
      EuroCVD 18
    • 発表場所
      Actons Hotel (Kinsale, Ireland)
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] An Automatic Modeling System of the Reaction Mechanisms for CVD Processes Using Real-coded Genetic Algorithms2011

    • 著者名/発表者名
      Takahiro Takahashi, Hiroyuki Nakai, Hiroki Kinpara and Yoshinori Ema
    • 学会等名
      EuroCVD 18
    • 発表場所
      Actons Hotel (Kinsale, Ireland)
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書

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公開日: 2011-08-05   更新日: 2019-07-29  

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