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離型剤を必要としない UV ナノインプリント用樹脂モールドの開発

研究課題

研究課題/領域番号 23655218
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 高分子・繊維材料
研究機関大阪府立大学

研究代表者

白井 正充  大阪府立大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (00081331)

研究期間 (年度) 2011 – 2012
研究課題ステータス 完了 (2012年度)
配分額 *注記
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2012年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2011年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
キーワードUVインプリント / 樹脂モールド / レプリカモールド / 離型剤フリー / 分解性光硬化樹脂 / 複製樹脂モールド / 分解型光硬化樹脂 / UVインプリント / 表面特性
研究概要

UVインプリントではインプリント過程での石英モールドの汚損は避けられない。本研究では、高価な石英モールドの代替として、レプリカ樹脂モールドを作製する方法を確立した。さらに、樹脂モールド用材料として、離型剤を必要としない特性を有する樹脂材料を開発した。また、表面科学の立場から、樹脂モールド表面の親水/疎水特性とUVインプリント樹脂の剥離性の関連を明らかにした。

報告書

(3件)
  • 2012 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2011 実施状況報告書
  • 研究成果

    (49件)

すべて 2013 2012 2011 その他

すべて 雑誌論文 (13件) (うち査読あり 13件) 学会発表 (29件) (うち招待講演 5件) 図書 (6件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] ヘミアセタールエステル部位を有する新規メタクリラートの合成とリワーク型樹脂への応用2013

    • 著者名/発表者名
      岡村晴之、初瀬達也、白井正充
    • 雑誌名

      ネットワークポリマー

      巻: 35 ページ: 2-7

    • NAID

      130004648286

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photo-crosslinking of polymeric photobase generator bearing O-acyloxime moieties with low eliminating by-products and high sensitivity2013

    • 著者名/発表者名
      K. Suyama
    • 雑誌名

      React. Funct. Polym.

      巻: 73 号: 3 ページ: 518-523

    • DOI

      10.1016/j.reactfunctpolym.2012.12.002

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photoacid- and Photobase-Generating Monomers for Surface Modification of Cured Resin : Application to Novel Resin Mold for UV Imprint2012

    • 著者名/発表者名
      S. Horii, K. Yamane, H. Okamura, M. Shirai
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol

      巻: 25 ページ: 735-740

    • NAID

      130004833509

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] 分解性を有する架橋・硬化ポリマーの合成と応用2012

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 雑誌名

      高分子

      巻: 61 ページ: 865-867

    • NAID

      10031117777

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Synthesis and Properties of Novel i- and g-Line Sensitive Photoacid Generators Based on 9-Fluorenone Derivatives with Aryl–Ethynyl Units2012

    • 著者名/発表者名
      S. Kodama
    • 雑誌名

      Chemistry Letters

      巻: 41 号: 6 ページ: 625-627

    • DOI

      10.1246/cl.2012.625

    • NAID

      10030620560

    • ISSN
      0366-7022, 1348-0715
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photoacid- and Photobase-Generating Monomers for Surface Modification of Cured Resin : Application to Novel Resin Mold for UV Imprint2012

    • 著者名/発表者名
      S. Horii
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol.

      巻: 25 ページ: 735-740

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photo-cross-linking of Modified Polystyrene Having Degradable Linkages2011

    • 著者名/発表者名
      H. Okamura, E. Yamaguchi, M. Shirai
    • 雑誌名

      React. Func. Polym

      巻: 71 ページ: 480-488

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reworkable Dimethacrylates with Low Shrinkage and Their Application to UV Imprint Lithography2011

    • 著者名/発表者名
      D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
    • 雑誌名

      J. Mater. Chem.

      巻: 21 ページ: 10407-10417

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] リワーク型低収縮性ジメタクリラートとそのUVインプリント材料への応用2011

    • 著者名/発表者名
      岡村晴之、白井正充
    • 雑誌名

      ネットワークポリマー

      巻: 33 ページ: 74-78

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Photo-cross-linking and De-cross-linking of Modified Polystyrenes having Degradable Linkages2011

    • 著者名/発表者名
      H. Okamura, E. Yamaguchi, M. Shirai
    • 雑誌名

      React. Func. Polym.

      巻: 71 ページ: 480-488

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reworkable Dimethacrylates with Low Shrinkage and Their Application to UV Imprint Lithography2011

    • 著者名/発表者名
      D.D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
    • 雑誌名

      J. Mater. Chem.,

      巻: 21 ページ: 10407-10417

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Reworkable Resin Using Thiol-Ene System2011

    • 著者名/発表者名
      H. Okamura, M Shiai
    • 雑誌名

      J. Photopolym. Sci. Technol.,

      巻: 24 ページ: 561-564

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] リワーク型低収縮ジメタクリラートとそのUVインプリント材料への応用2011

    • 著者名/発表者名
      岡村晴之、白井正充
    • 雑誌名

      ネットワークポリマー

      巻: 33 ページ: 74-78

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 分解性を有する架橋・硬化ポリマーの合成と応用2013

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 学会等名
      高分子学会講演会
    • 発表場所
      東京
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Synthesis and UV Curing of Multi-functional Monomers with Degradable Property2012

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      SERMACS 2012
    • 発表場所
      アメリカ
    • 年月日
      2012-11-14
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Photoacid and Photobase Generators for UV Curing2012

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      The 2nd International Forum on Radiation Curing Industrial Development
    • 発表場所
      中国
    • 年月日
      2012-09-20
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Photoacid and Photobase Generating Monomers: Photochemistry and Application to UV Imprint Materials2012

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      European Symposium on Photopolymer Science 2012
    • 発表場所
      イタリア
    • 年月日
      2012-09-05
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 新規リワーク型多官能メタクリラートのUVインプリント材料への応用2012

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 学会等名
      第61回高分子年次大会
    • 発表場所
      横浜
    • 年月日
      2012-05-29
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Preparation of Novel Resin Mold fro UV Imprint Lithography using UV-Curable Monomers2012

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      RadTech UV & EB Technology Expo and Conference
    • 発表場所
      アメリカ
    • 年月日
      2012-05-01
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 新規リワーク型多官能メタクリラートのUVインプリント材料への応用2012

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 学会等名
      第61回高分子学会年次大会
    • 発表場所
      横浜
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] 分解型光硬化樹脂とUVインプリント等への応用2012

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 学会等名
      第192回フォトポリマー懇話会講演会
    • 発表場所
      東京
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] 光酸発生剤を活用するフォトポリマー材料に関する研究2012

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 学会等名
      61回高分子討論会
    • 発表場所
      名古屋
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] 再可溶化できる光架橋型高分子2012

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 学会等名
      プラスチックリサイクル化学研究会(FSRJ)第15回討論会
    • 発表場所
      米沢
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Synthesis and UV curing of multi-functional monomers with degradable property2012

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      SERMACS 2012
    • 発表場所
      アメリカ
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Preparation of Novel Resin Mold for UV Imprint Lithography using UV-Curable Monomers2012

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      RadTech UV&EB Technology Expo & Conference
    • 発表場所
      アメリカ
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Photoacid and Photobase generating monomers-Photochemistry and application to UV imprint materials2012

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      European Symposium of Photopolymer Science 2012
    • 発表場所
      イタリア
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Photoacid and Photobase Generators for UV Curing2012

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      The 2nd International Forum on Radiation Curing Industry Developmen
    • 発表場所
      中国
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] UV Imprint Lithography: Process, Materials, Materials, and Applications2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      Korea-Japan Symposium on Frontier Photoscience
    • 発表場所
      韓国
    • 年月日
      2011-11-29
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Novel Resin Mold for UV nanoimprint: A Demolding Agent Free System2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      37th International Conference on Micro and NanoEngineering
    • 発表場所
      ドイツ
    • 年月日
      2011-09-20
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Novel Monomers with Degradable Property and Their Application to UV Imprint Lithography2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      Photopolymerization Fundamentals 2011
    • 発表場所
      アメリカ
    • 年月日
      2011-06-27
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 離型剤フリーなUVインプリント用モールドのための樹脂材料2011

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 学会等名
      第60回高分子年次大会
    • 発表場所
      大阪
    • 年月日
      2011-05-25
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] リワーク型多官能メタクリラートのUVインプリント材料への応用2011

    • 著者名/発表者名
      松川大作、村上雄基、岡村晴之、白井正充
    • 学会等名
      第60回高分子年次大会
    • 発表場所
      大阪
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] 離型剤フリーなUVインプリント用モールドのための樹脂材料2011

    • 著者名/発表者名
      堀井俊哉、岡村晴之、白井正充
    • 学会等名
      第60回高分子年次大会
    • 発表場所
      大阪
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] UV Curing of Reworkable Dendrimers2011

    • 著者名/発表者名
      H. Okamura, M. Shirai
    • 学会等名
      RadTech Asia 2011
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Duplication of Mold for UV Imprint Lithography Using UV Curable Resin with Reworkable Property2011

    • 著者名/発表者名
      S. Horii, D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
    • 学会等名
      RadTech Asia 2011
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Reworkable Dimethacrylates Having Hemiacetal Ester Units2011

    • 著者名/発表者名
      H. Okamura, T. Hatsuse, D. Matsukawa, M. Shirai
    • 学会等名
      RadTech Asia 2011
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] UV Curing of Reworkable Resin: Analysis of Chain Propagation2011

    • 著者名/発表者名
      D. Matsukawa, H. Okamura, M. Shirai
    • 学会等名
      RadTech Asia 2011
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Reworkable Resin Using Thiol-Ene System2011

    • 著者名/発表者名
      H. Okamura, M. Shirai
    • 学会等名
      The 28th International Conference of Photopolymer Science and Technology
    • 発表場所
      Chiba, Japan
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Novel Monomers with Degradable Property and Their Applications to UV Imprint Lithography2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      Photopolymerization Fundamentals 2011(招待講演)
    • 発表場所
      Breckenridge, CO, USA
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] UV Curing and Degradation of Reworkable Methacrylates Having Hemiacetal Ester LInkage2011

    • 著者名/発表者名
      Y. Murakami, H. Okamura, M. Shirai
    • 学会等名
      Photopolymerization Fundamentals 2011
    • 発表場所
      Breckenridge, CO, USA
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Novel Resin Mold for UV Nanoimprint: A Demolding Agent Free System2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      37th International Conference on Micro and Nano Engineering
    • 発表場所
      Berlin, Germany
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] UV Imprint Lithography: Process, Materials and Applications2011

    • 著者名/発表者名
      M. Shirai
    • 学会等名
      Korea-Japan Symposium on Frontier Photoscience(招待講演)
    • 発表場所
      Seoul, Korea
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [図書] 光学用粘・接着剤と貼り合わせ技術2012

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 出版者
      S&T出版
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [図書] 光学用粘・接着剤と貼り合わせ技術2012

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 出版者
      S&T出版
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [図書] 高機能アクリル樹脂の開発と応用2011

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 出版者
      シーエムシー出版
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [図書] 高分子の架橋と分解III2011

    • 著者名/発表者名
      白井正充
    • 出版者
      シーエムシー出版
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [図書] 高機能アクリル樹脂の開発と応用2011

    • 著者名/発表者名
      白井正充 (分担執筆)
    • 総ページ数
      10
    • 出版者
      シーエムシー
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [図書] 高分子の架橋と分解III2011

    • 著者名/発表者名
      白井正充 (分担執筆)
    • 総ページ数
      14
    • 出版者
      シーエムシー
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [備考]

    • URL

      http://www.chem.osakafu-u.ac.jp/ohka/ohka7/index.html

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書

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公開日: 2011-08-05   更新日: 2019-07-29  

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