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金属ガラスフラックスを介したSiC単結晶の気相成長法の開発

研究課題

研究課題/領域番号 23656028
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 薄膜・表面界面物性
研究機関東京工業大学

研究代表者

松本 祐司  東京工業大学, 応用セラミックス研究所, 准教授 (60302981)

研究期間 (年度) 2011 – 2012
研究課題ステータス 完了 (2012年度)
配分額 *注記
3,770千円 (直接経費: 2,900千円、間接経費: 870千円)
2012年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2011年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
キーワード薄膜 / 金属ガラスSiC / SiC / フラックス成長 / 金属ガラス / エピタキシー
研究概要

本研究では、金属ガラスフラックス(融液)探索のためのレーザー加熱型の真空レーザー顕微鏡の開発を行い、SEMのその場観察の結果と併せて、金属ガラスのSiC単結晶上での溶解と偏析過程を明らかにした。また、Si-Niフラックスを用いて、フラックス成長を試みたところ、結晶グレインサイズの大幅な拡大と表面平坦化が達成され、高品質化を目的としたSiC薄膜成長におけるフラックス気相成長法の有効性が実証された。

報告書

(3件)
  • 2012 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2011 実施状況報告書
  • 研究成果

    (8件)

すべて 2012 2011 その他

すべて 学会発表 (8件) (うち招待講演 1件)

  • [学会発表] PLD法によるSi-Ni系フラックス薄膜を介したSiC保もエピタキシャル成長2012

    • 著者名/発表者名
      小沼碧海、丸山伸伍、松本祐司
    • 学会等名
      第7回に本フラックス成長研究発表会
    • 年月日
      2012-12-07
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] High-throughput Screening of Metal Flux for SiC Solution Growth Using a High-Temperature Laser Microscope Observation and SIMS Depth Profiling2012

    • 著者名/発表者名
      Shingo Maruyama
    • 学会等名
      (Invited),7th International Workshop on Combinatorial Materials Science & Technology
    • 発表場所
      USA
    • 年月日
      2012-10-22
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] PLD法によるSiCホモエピタキシャル成長におけるSi-Ni系フラックス薄膜の効果2012

    • 著者名/発表者名
      小沼碧海
    • 学会等名
      2012年秋季 第73回 応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛大学
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] High-throughput Screening of Metal Flux for SiC Solution Growth Using a High-Temperature Laser Microscope Observation and SIMS Depth Profiling2012

    • 著者名/発表者名
      丸山伸伍
    • 学会等名
      7th International Workshop on Combinatorial Materials Science & Technology
    • 発表場所
      Charieston USA
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] 高温真空レーザ顕微鏡によるSiC 溶液成長に向けたSi-Cr 系フラックス薄膜の熱挙動観察2012

    • 著者名/発表者名
      小沼碧海、丸山伸伍、松本祐司
    • 学会等名
      2012春季第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] 高温真空レーザ顕微鏡によるSiC溶液成長に向けたSi-Ni系フラックス薄膜の熱挙動観察2011

    • 著者名/発表者名
      丸山伸伍、松本祐司
    • 学会等名
      秋季第72回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      山形大学
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] 高温真空レーザ顕微鏡によるSiC溶液成長のためのSi-Ni組成傾斜膜のハイスループット熱挙動観察2011

    • 著者名/発表者名
      S. Maruyama, Y. Matsumoto
    • 学会等名
      2011 MRS Fall Meeting & Exhibit
    • 発表場所
      Boston, USA
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] PLD法によるSi-Ni系フラックス薄膜を介した SiCホモエピタキシャル成長

    • 著者名/発表者名
      小沼碧海
    • 学会等名
      第7回日本フラックス成長研究発表会
    • 発表場所
      NIMS
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書

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公開日: 2011-08-05   更新日: 2019-07-29  

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