| 研究課題/領域番号 |
23656038
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| 研究種目 |
挑戦的萌芽研究
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 財団法人高輝度光科学研究センター |
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研究代表者 |
田尻 寛男 財団法人高輝度光科学研究センター, 利用研究促進部門, 研究員 (70360831)
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| 研究期間 (年度) |
2011
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| 研究課題ステータス |
完了 (2011年度)
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| 配分額 *注記 |
1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
2011年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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| キーワード | 表面フォノン / X線散乱 / ビスマス超薄膜 / シリコン単結晶 |
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| 研究概要 |
結晶内の原子は整然と格子を組んで配列しているが、熱的に振動している(格子振動)。結晶の表面やナノメートル尺度の非常に薄い膜(超薄膜)では、格子振動の様子は結晶内部のそれとは異なっている。その様子を調べるために、格子振動によるX線の散乱を計測する実験手法と、その解析手法を開発した。厚さ10ナノメートル以下のビスマス超薄膜をシリコン基板上に作製し、超薄膜の格子振動由来のX線散乱の計測に成功した。
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