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ニッケル酸化物を活用した超高周波トンネルダイオードの作製:太陽光発電をめざして

研究課題

研究課題/領域番号 23656211
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関電気通信大学

研究代表者

野崎 眞次  電気通信大学, 大学院・情報理工学研究科, 教授 (20237837)

研究期間 (年度) 2011 – 2012
研究課題ステータス 完了 (2012年度)
配分額 *注記
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2012年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2011年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
キーワードレクテナ / 整流器 / 酸化ニッケル / 光酸化 / 全空乏 / 太陽光発電 / ショットキー
研究概要

NiOxをNi金属間に挟んだトンネルダイオードの研究は最近数多く報告されているが、そのI-V特性において整流性は全く得られていない。本研究では、理論的に整流性が得られない理由を明らかにし、整流性を得るための金属を同定した。また、NiOxがP形半導体であることに注目し、そのキャリア濃度の制御により一方がショットキー、他方がオーミック接合を形成 することを示した。さらにキャリア制御には Ni 金属の UV 酸化が有効であることを示した。

報告書

(3件)
  • 2012 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2011 実施状況報告書
  • 研究成果

    (14件)

すべて 2013 2012 2011 その他

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (10件) 備考 (1件) 産業財産権 (2件)

  • [雑誌論文] Microstructure developments of F-doped SiO2 thin films prepared by liquid phase deposition2012

    • 著者名/発表者名
      Shijun Yu, Jae Sung Lee, Shinji Nozaki, Junghyun Cho
    • 雑誌名

      Thin Solid Films 520

      ページ: 1718-1723

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] Effect of O2/Ni gas ratio on the epitaxial growth of NiO films by metalorganic chemical vapordeposition,2013

    • 著者名/発表者名
      Teuku Muhammad Roffi, Motohiko Nakamura, Kazuo Uchida and Shinji Nozaki
    • 学会等名
      2013 MRS Spring Meeting
    • 発表場所
      SanFrancisco, CA, USA.
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Effect of O2/Ni gas ratio on the epitaxial growth of NiO films by metalorganic chemical vapor deposition2013

    • 著者名/発表者名
      Teuku Muhammad Roffi, Motohiko Nakamura, Kazuo Uchida and Shinji Nozaki
    • 学会等名
      2013 MRS Spring Meeting
    • 発表場所
      San Francisco, CA, USA
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Intense ultraviolet photoluminescence observed at room temperature from NiO nano-porous thin films grown by the hydrothermal technique2012

    • 著者名/発表者名
      Sachindra Nath Sarangi, Puratap Kumar Sahoo, Kazuo Uchida, Surendra Nath Sahu, Shinji Nozaki, and Dongyuan Zhang
    • 学会等名
      2012 MRS Fall Meeting
    • 発表場所
      Boston, MA, USA
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書 2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Fabrication of a p-NiO/n-Si heterjunction diode by UV oxidation of Ni deposited on n-Si2012

    • 著者名/発表者名
      Dongyuan Zhang, Kazuo Uchida, and Shinji Nozaki
    • 学会等名
      2012 MRS Fall Meeting
    • 発表場所
      Boston, MA, USA.
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Fabrication of a p-NiO/n-Si heterjunction diode by UV oxidation of Ni deposited on n-Si2012

    • 著者名/発表者名
      Dongyuan Zhang, Kazuo Uchida, and Shinji Nozaki
    • 学会等名
      2012 MRS Fall Meeting
    • 発表場所
      Boston, MA, USA
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] UV酸化による半導体ニッケル酸化物の作製2011

    • 著者名/発表者名
      張東元m小泉淳、小野 洋、内田和男、野崎眞次
    • 学会等名
      電気通信大学・東京農工大学第8回合同シンポジウム
    • 発表場所
      東京農工大学
    • 年月日
      2011-12-10
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] XPSによる低温シリコン酸化膜の評価-フレキシブル基板上の集積回 路をめざして2011

    • 著者名/発表者名
      野崎 眞次
    • 学会等名
      日本電子 EPMA・表面分析ユーザーズミーティング 2011
    • 発表場所
      東京大学武田先端知ビル
    • 年月日
      2011-10-07
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] UV 酸化による半導体ニッケル酸化物の作製2011

    • 著者名/発表者名
      張東元,小泉淳,内田和男,Ramakrishnan Veerabahu,野崎眞次
    • 学会等名
      第72回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      山形大学
    • 年月日
      2011-09-01
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] UV酸化による半導体ニッケル酸化物の作製2011

    • 著者名/発表者名
      張 東元、小泉 淳、内田和男、Ramakrishnan Veerabahu、野崎眞次
    • 学会等名
      第72回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      山形大学
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] UV酸化による半導体ニッケル酸化膜の作製2011

    • 著者名/発表者名
      張 東元、小泉 淳、小野 洋、内田和男、野崎眞次
    • 学会等名
      電気通信大学・東京農工大学第8回合同シンポジウム
    • 発表場所
      東京農工大学
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [備考]

    • URL

      http://www.w3-4f5f.ee.uec.ac.jp

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [産業財産権] 整流素子2012

    • 発明者名
      野崎眞次、内田和男、黒川真吾、古川実、白土正
    • 権利者名
      日本電業工作株式会社、電気通信大学
    • 産業財産権番号
      2012-094148
    • 出願年月日
      2012-04-17
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [産業財産権] 整流素子2012

    • 発明者名
      野崎眞次、内田和男、黒川真吾、古川 実、白土 正
    • 権利者名
      日本電業工作株式会社、電気通信大学
    • 産業財産権種類
      特許
    • 出願年月日
      2012-04-17
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書

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公開日: 2011-08-05   更新日: 2019-07-29  

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