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化学気相堆積法を用いた低温ホモジニアス固体電解質/電極構造の実現

研究課題

研究課題/領域番号 23656426
研究種目

挑戦的萌芽研究

配分区分基金
研究分野 構造・機能材料
研究機関東京工業大学

研究代表者

篠崎 和夫  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 教授 (00196388)

研究分担者 櫻井 修  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 准教授 (20108195)
塩田 忠  東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教 (40343165)
連携研究者 脇谷 尚樹  静岡大学, 工学部, 教授 (40251623)
木口 賢紀  東北大学, 金属材料研究所, 准教授 (70311660)
研究期間 (年度) 2011 – 2012
研究課題ステータス 完了 (2012年度)
配分額 *注記
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2012年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
2011年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
キーワード燃料電池材料 / CVD 法低温合成 / 燃料電池 / Gd添加CeO2 / 減圧CVD法 / 常圧CVD法 / 低温合成 / CVD法 / GDC / SDC
研究概要

従来の酸化物イオン伝導体を用いた燃料電池電解質板は焼結プロセスで作成されており、原料粉体中の添加イオン分布の原子レベルでの不均一や、高焼結温度(1200~1500℃)による焼結体中での陽イオン分布の不均一などの問題がある。本研究では従来の固体電解質板作成の考え方を変えて、新しい有機金属原料を用いた化学気相析出(CVD)法を用いて、低温で陽イオンが均一に分散し、焼結過程を経ずに固体電解質を形成する条件を検討した。CVDについては、減圧CVDと常圧CVDの両面で検討した。減圧CVDでは、基板温度300℃程度で製膜が可能で、膜厚方向の酸化物イオン伝導も150~180℃で観察されることを確認した。常圧CVDでは、原料気化部と製膜部を上下位置に配置し、その距離を近づけることで、気化した原料ガスが直接、基板上に輸送される構造を持つ装置を新規に開発した。また、Ni-GDC系混合導電体多孔質(アノード)電極、および、LaSrCoO_3-GDCを用いた多孔質混合導電性(カソード)電極の試作をおこない、減圧CVD法によるGDC固体電解質薄膜の形成条件の検討を行った。気孔率の制御をPMMA粒子の粒径、添加量で行い、曲げ強度とガス透過率測定による電極性能の検討を行った。作成した薄膜型の燃料電池構造で、H_2-O_2系原料ガスによる発電試験を行った。

報告書

(3件)
  • 2012 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2011 実施状況報告書
  • 研究成果

    (20件)

すべて 2013 2012 2011 2010

すべて 雑誌論文 (2件) (うち査読あり 2件) 学会発表 (18件)

  • [雑誌論文] Effect of step edges on the growth of Pt thin films on oxide single-crystal substrates2013

    • 著者名/発表者名
      Tadashi Shiota, Hiroki Ito, Naoki Wakiya, Jeffrey Cross, Osamu Sakurai, Kazuo Shinozaki
    • 雑誌名

      Journal of the Ceramic Society of Japan

      巻: 121 号: 1411 ページ: 278-282

    • DOI

      10.2109/jcersj2.121.278

    • NAID

      130004950829

    • ISSN
      1348-6535, 1882-0743
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of step edges on the growth of Pt thin films on oxide single-crystal substrates2013

    • 著者名/発表者名
      Tadashi SHIOTA, Hiroki ITO, Naoki WAKIYA, Jeffrey CROSS, Osamu SAKURAI, Kazuo SHINOZAKI
    • 雑誌名

      Journal of the Ceramic Society of Japan

      巻: 121 ページ: 278-282

    • NAID

      130004950829

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] YSZ酸素センサーの低温駆動を目指した(La,Sr)(Co,Ni)O_3薄膜電極の電気特性評価2013

    • 著者名/発表者名
      永原和聡, 海老澤琢, 浜崎純一, 塩田忠,脇 谷尚樹, 櫻井修, 篠崎和夫
    • 学会等名
      日本セラミックス協会2013年年会
    • 発表場所
      東京工業大学(東京)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] PLD法により各種酸化物ステップ基板上に製膜したPt薄膜の成長機構2013

    • 著者名/発表者名
      井藤洋輝, 塩田忠, 脇谷尚樹, 櫻井修, 篠崎和夫
    • 学会等名
      日本セラミックス協会2013年年会
    • 発表場所
      東京工業大学(東京)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] PLD法により各種酸化物ステップ基板上に製膜したPt薄膜の成長機構2013

    • 著者名/発表者名
      井藤洋輝・塩田忠・脇谷尚樹・櫻井修・篠崎和夫
    • 学会等名
      日本セラミックス協会2013年年会
    • 発表場所
      東京工業大学西9号館(東京都)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] YSZ酸素センサーの低温駆動を目指した (La,Sr)(Co,Ni)O3 薄膜電極の電気特性評価2013

    • 著者名/発表者名
      永原和聡・海老沢琢・浜崎純一・塩田忠・脇谷尚樹・櫻井修・篠崎和夫
    • 学会等名
      日本セラミックス協会2013年年会
    • 発表場所
      東京工業大学西9号館(東京都)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] CVD法による多孔質混合誘電性基板上へのGd添加CeO2_2電解質薄膜合成とその特性2012

    • 著者名/発表者名
      門馬征史, 三田健介, 大島直也, 田中宏樹, 塩田忠, Cross Jeffrey, 櫻井修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹
    • 学会等名
      日本セラミックス協会エレクトロセラミックス研究討論会
    • 発表場所
      東京工業大学(東京)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] YSZ薄膜酸素センサー上に形成した(La,Sr)(Co,Ni)O3_3電極の低温動作特性評価2012

    • 著者名/発表者名
      永原和聡, 海老沢琢, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹
    • 学会等名
      日本セラミックス協会関東支部研究発表会
    • 発表場所
      静岡大学(浜松)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 酸化物単結晶基板上のPt薄膜成長に及ぼすステップエッジの影響2012

    • 著者名/発表者名
      井藤洋輝, 塩田忠, 櫻井修, 篠崎和夫, 脇谷尚樹
    • 学会等名
      日本セラミックス協会関東支部研究発表会
    • 発表場所
      静岡大学(浜松)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Electrical and catalytic properties of mixed condutive (La,Sr) (Co,Ni)O_3 thin-film prepared by pilsed laser deposition2012

    • 著者名/発表者名
      Kazuto Nagahara, ,Taku Ebisawa,Ta dashi Shiota,Naoki Wakiya,Jeffery S Cross, Osamu Sakurai and Kazuo Shinozaki
    • 学会等名
      6thInternational Conference on the Science and Technology for the Advanced Ceramics,
    • 発表場所
      Mielparque Yokohama (Yokohama)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Growth process of Pt thin Films on stepped surface of oxide single crystals2012

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Ito,Tadashi Shiota,Naoki Wakiya, Jeffrey S. Cross, Osamu Sakurai and Kazuo Shinozaki
    • 学会等名
      6th International Conference on the Science and Technology for the Advanced Ceramics
    • 発表場所
      Mielparque Yokohama(Yokohama)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] CVD法によるGd添加CeO_2電解質薄膜形成用Ni-電解質混合導電基板の作製と特性2012

    • 著者名/発表者名
      門馬征史, 田中宏樹, 早乙女遼一, 木口賢紀, 脇谷尚樹, Cross Jeffrey, 櫻井修, 篠崎和夫
    • 学会等名
      日本セラミック協会関東支部研究発表会
    • 発表場所
      静岡大学(浜松)
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] Growth process of Pt thin films on stepped surface of oxide single crystals2012

    • 著者名/発表者名
      Hiroki Ito, Tadashi Shiota, Naoki Wakiya, Jeffrey S. Cross, Osamu Sakurai and Kazuo Shinozaki
    • 学会等名
      6th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics
    • 発表場所
      メルパルク横浜(神奈川県)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Electrical and catalytic properties of mixed conductive (La,Sr)(Co,Ni)O3 thin-film prepared by pulsed laser deposition2012

    • 著者名/発表者名
      Kazuto Nagahara, Taku Ebisawa, Tadashi Shiota, Naoki Wakiya, Jeffery S Cross, Osamu Sakurai and Kazuo Shinozaki
    • 学会等名
      6th International Conference on the Science and Technology for Advanced Ceramics
    • 発表場所
      メルパルク横浜(神奈川県)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] 酸化物単結晶基板上のPt薄膜成長に及ぼす ステップエッジの影響2012

    • 著者名/発表者名
      井藤洋輝,塩田忠,櫻井修,篠崎和夫,脇谷尚樹
    • 学会等名
      日本セラミックス協会関東支部研究発表会
    • 発表場所
      静岡大学浜松キャンパス(静岡県)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] YSZ薄膜酸素センサー上に形成した(La,Sr)(Co,Ni)O3 電極の低温動作特性評価2012

    • 著者名/発表者名
      永原和聡、海老沢琢、塩田忠、櫻井修、篠崎和 夫、脇谷尚樹
    • 学会等名
      日本セラミックス協会関東支部研究発表会
    • 発表場所
      静岡大学浜松キャンパス(静岡県)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] CVD法による多孔質混合導電性基板上への Gd添加CeO2電解質薄膜合成とその特性2012

    • 著者名/発表者名
      門馬征史・三田健介・大島直也・田中宏樹・ 塩田忠・Cross Jeffrey・櫻井修・篠崎和夫・脇谷尚樹
    • 学会等名
      日本セラミックス協会エレクトロセラミックス研究討論会
    • 発表場所
      東京工業大学西9号館(東京都)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] CVD法によるGd2O3添加CeO2電解質薄膜の低温製膜とその電気特性2012

    • 著者名/発表者名
      田中宏樹, Jeffrey Cross, 塩田忠, 篠崎和夫, 櫻井修, 木口賢紀, 脇谷尚樹, 東慎太郎
    • 学会等名
      日本セラミックス協会2012年年会講演予稿集, 3D08, P.292
    • 発表場所
      京都大学, 京都
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] CVD 法によるGd 添加CeO2電解質薄膜形成用Ni-電解質混合導電基板の作製と特性2011

    • 著者名/発表者名
      門馬征史, 田中宏樹, 早乙女遼一, 木口賢紀, 脇谷尚樹, Cross Jeffrey, 櫻井 修, 篠崎和夫
    • 学会等名
      第27回日本セラミックス協会関東支部研究発表会講演要旨集, 1C14, P.58
    • 発表場所
      静岡大学, 静岡県
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] CVD法によるGd2O_3添加CeO_2電解質薄膜の低温製膜とその電気特性2010

    • 著者名/発表者名
      田中宏樹, Jeffrey Cross, 塩田忠 ,篠崎和夫, 櫻井修, 木口賢紀, 脇谷尚樹, 東慎太郎
    • 学会等名
      日本セラミックス協会2012年年会講演
    • 発表場所
      京都大学(京都)
    • 年月日
      2010-03-20
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書

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公開日: 2011-08-05   更新日: 2019-07-29  

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