| 研究課題/領域番号 |
23710123
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
ナノ材料・ナノバイオサイエンス
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
森 伸介 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 准教授 (80345389)
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2012年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2011年度: 2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
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| キーワード | ナノ構造形成 / 制御 / カーボンナノファイバー / carbon nanofiber / plasma enhanced CVD / Area-selective growth / CVD / plasma / area selective / low temperature / photolithography |
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| 研究概要 |
低温かつ無触媒でCNFが合成できるという我々が開発したプラズマCVD法と、フォトリソグラフィープロセスとを組み合わせることで、工程数の少ない簡易な領域選択合成プロセスの開発を行った。その結果、プラスチック基板および金属配線を施したプラスチック基板の上へ、領域選択的にCNFを合成することができた。したがって当初の計画通り、プラスチック基板上へのカーボンナノファイバーの直接領域選択合成に成功した。
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