| 研究課題/領域番号 |
23710137
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
ナノ材料・ナノバイオサイエンス
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| 研究機関 | 独立行政法人物質・材料研究機構 |
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研究代表者 |
石田 暢之 独立行政法人物質・材料研究機構, ナノ材料科学環境拠点, NIMSポスドク研究員 (10451444)
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2012年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2011年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
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| キーワード | ナノ構造形成・制御 / グラフェン / 酸化グラフェン / 酸化分解過程 / TOF-SIMS / 活性酸素 / 酸化分解 / 加工技術 |
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| 研究概要 |
プラズマによって生成された活性酸素をグラファイト表面に作用させることで、グラフェンシートを一層ずつエッチングできることが分かった。しかし、ラマン分光測定からエッチングによって作製したグラフェンは酸化していることが分かった。酸化分解過程のより詳しい評価を行ったところ、一定時間のエッチングであれば表面第一層のみの酸化であることが分かった。これらの結果から、グラフェンの総数を制御した加工技術を確立できる可能性が見えてきた。今後は、表面第一層の酸化層を取り除く技術を確立する必要がある。
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