| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2012年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
2011年度: 2,600千円 (直接経費: 2,000千円、間接経費: 600千円)
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| 研究概要 |
独自に開発した急速加熱プラズマCVD法を用いることで,原子1層2次元炭素シートであるグラフェンを絶縁基板上へ直接合成することに成功した.また,原子1層2次元炭素シートが疑似1次元形状をとった物質であるグラフェンナノリボンに関して,構造制御合成,及びそれを用いたデバイスの集積化合成に世界で初めて成功した.さらに,それらが極めて優れたトランジスタ(オンオフ比10000以上)として動作することを実証した.
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