| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2012年度: 1,560千円 (直接経費: 1,200千円、間接経費: 360千円)
2011年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
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| 研究概要 |
光照射条件下,窒素原子に隣接する sp^3 炭素-水素結合を直接的に官能基化する手法は,含窒素化合物合成の魅力的な手法である.最近,光照射条件下,光増感剤が存在せずとも α-アミノアルキルラジカルのニトロンに対する分子間付加反応が進行し,ヒドロキシルアミン誘導体を与えることを見出した.光照射条件下,光増感剤が存在する反応では,付加反応が加速されより効果的な手法となった.様々なニトロンと第三級アミンが,首尾よく利用可能であった.次に,新規なルイス酸-光増感剤ハイブリッド型キラル触媒を用いた不斉反応を行った.その結果,反応はスムーズに進行し生成物が良好な収率で得られたが,キラルHPLC によるエナンチオマーの分離条件を決定できず生成物のエナンチオマー過剰率の決定には至っていない.
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