| 研究課題/領域番号 |
23750153
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
機能物質化学
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| 研究機関 | 横浜国立大学 |
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研究代表者 |
生方 俊 横浜国立大学, 大学院・工学研究院, 准教授 (00344028)
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2012
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| 研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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| 配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2012年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
2011年度: 2,730千円 (直接経費: 2,100千円、間接経費: 630千円)
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| キーワード | 光物性 / 光架橋 / 光開裂 / 光微細加工 / レリーフ / 表面レリーフ / アントラセン / 光物質移動 / パターニング |
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| 研究概要 |
光によって連結し高分子化する分子を設計・合成した。合成した分子から薄膜を作製した。この薄膜に紫外光を照射すると高分子量体が生成することを確認した。フォトマスクを介して紫外光を照射すると、未露光部分の分子が露光部に移動することで、フォトマスクの形状が転写された凹凸を有する構造(表面レリーフ)が形成した。加熱することで、この表面レリーフは元の平滑な表面に戻るが、従来の表面レリーフ形成低分子材料に比べて、熱安定性が向上した。
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