研究課題/領域番号 |
23760020
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研究種目 |
若手研究(B)
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配分区分 | 基金 |
研究分野 |
応用物性・結晶工学
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研究機関 | 高知工科大学 |
研究代表者 |
春田 正和 高知工科大学, 環境理工学群, 助教 (90580605)
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研究期間 (年度) |
2011 – 2012
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研究課題ステータス |
完了 (2012年度)
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配分額 *注記 |
2,470千円 (直接経費: 1,900千円、間接経費: 570千円)
2012年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円)
2011年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円)
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キーワード | 酸化物高温超伝導体 / 希土類系高温超伝導体 / 超伝導薄膜 / 臨界電流密度 / 臨界電流特性 / パルスレーザ堆積 / 結晶欠陥 / ナノロッド / 高温超伝導薄膜 / Nd:YAGレーザ / キャリア密度 |
研究概要 |
液体窒素温度かつ磁場下において、実用レベルの臨界電流密度を有する希土類系高温超伝導(RE123)薄膜の作製を目指して、RE123薄膜中にナノサイズの柱状欠陥(ナノロッド)を導入した。ナノロッド導入RE123薄膜の臨界電流特性は成膜温度(Ts)に強く依存しており、Tsに依存したナノロッド形態と臨界電流特性の関係を明らかにした。また、臨界電流特性のTs依存性が超伝導母相組成によって異なることも明らかにした。さらに、超伝導母相に二種類の希土類元素を混合することにより、Tsに依存しない臨界電流特性を有するRE123薄膜の作製に成功した。
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