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ビスマスフェライトにおける新規ドメイン構造に起因する物性の解明

研究課題

研究課題/領域番号 23760290
研究種目

若手研究(B)

配分区分基金
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関兵庫県立大学

研究代表者

中嶋 誠二  兵庫県立大学, 大学院・工学研究科, 助教 (80552702)

研究期間 (年度) 2011 – 2012
研究課題ステータス 完了 (2012年度)
配分額 *注記
4,160千円 (直接経費: 3,200千円、間接経費: 960千円)
2012年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2011年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
キーワードマルチフェロイック / 強誘電性 / ドメイン構造 / ビスマスフェライト / 薄膜 / BiFeO3 / スパッタリング / イオンビームスパッタ / 高周波スパッタ
研究概要

本研究では、第一原理計算で~150μC/cm2の巨大分極が示唆されている、巨大正方晶歪(c/a=1.24)を有するBiFeO_3薄膜に着目し、菱面体晶系BFO薄膜、およびこれらの混相薄膜の作製を試みた。SrRuO_3/SrTiO_3基板上でも巨大正方晶歪BFO相の生成を確認し、約80°の角度をなす新規ドメイン構造の存在を確認した。また、LaAlO_3基板を用いて高品質巨大正方晶歪BFO薄膜の作製に成功し、光起電力効果も確認出来た。

報告書

(3件)
  • 2012 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2011 実施状況報告書
  • 研究成果

    (40件)

すべて 2013 2012 2011

すべて 雑誌論文 (8件) (うち査読あり 8件) 学会発表 (32件)

  • [雑誌論文] Structural and Ferroelectric Properties of Domain-Structure- Controlled BiFeO_3 Thin Films Prepared by Dual-Ion-Beam Sputtering2012

    • 著者名/発表者名
      S. Nakashima, H. Fujisawa, Y. Tsujita, S. Seto, M. Kobune, and M. Shimizu
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 51

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Preparation and Characterization of High Quality Lead-free BiFeO_3 Thin Films by Sputtering Process2012

    • 著者名/発表者名
      S. Nakashima, Y. Takada, T. Ito, S. Seto, H. Fujisawa, M. Kobune, and M. Shimizu
    • 雑誌名

      IEEE Proc. of ICETET2012

      巻: 128

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Structural and Ferroelectric Properties of Domain-Structure-Controlled BiFeO3 Thin Films Prepared by Dual-Ion-Beam Sputtering2012

    • 著者名/発表者名
      Seiji Nakashima
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 51 号: 9S1 ページ: 09LB02-09LB02

    • DOI

      10.1143/jjap.51.09lb02

    • NAID

      210000141239

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Preparation and Characterization of High Quality Lead-free BiFeO3 Thin Films by Sputtering Process2012

    • 著者名/発表者名
      Seiji Nakashima
    • 雑誌名

      IEEE Proceedings of 2012 Fifth International Conference on Emerging Trends in Engineering and Technology (ICETET)

      巻: - ページ: 128-131

    • DOI

      10.1109/icetet.2012.12

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Preparation of BiFeO_3Thin Films on SrRuO_3/SrTiO_3(001) Substrate by Dual Ion Beam Sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      S. Nakashima, H. Fujisawa, H. Suminaga, J. M. Park, H. Nishioka, M. Kobune, T. Kanashima, M. Okuyama, and M Shimizu
    • 雑誌名

      Jpn. J. Appl. Phys.

      巻: 50

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Growth of High Quality BiFeO3Thin Films by Dual Ion Beam Sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      S. Nakashima, Y. Tsujita, S. Seto, H. Fujisawa, H. Nishioka, M. Kobune, M. Shimizu, J. M. Park, T. Kanashima, and M. Okuyama
    • 雑誌名

      IEEE Proc. of ISAF-PFM2011

      巻: 168

    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Preparation of BiFeO_3 Thin Films on SrRuO_3/SrTiO_3(001) Substrate by Dual Ion Beam Sputtering Process2011

    • 著者名/発表者名
      S.Nakashima, H.Fujisawa, H.Suminaga, J.M.Park, H.Nishioka, M.Kobune, T.Kanashima, M.Okuyama, M.Shimizu
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 50 号: 9S2 ページ: 09NB01-09NB01

    • DOI

      10.1143/jjap.50.09nb01

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Growth of High Quality BiFeO_3 Thin Films by Dual Ion Beam Sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      S. Nakashima, Y. Tsujita, S. Seto, H. Fujisawa, H. Nishioka, M. Kobune, M. Shimizu, J. M. Park, T. Kanashima, and M. Okuyama
    • 雑誌名

      IEEE Proc. ISAF/PFM 2011

      巻: - ページ: 168-171

    • DOI

      10.1109/isaf.2011.6014140

    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 論文No. 28a-D3-52013

    • 著者名/発表者名
      内田智久, 高田祐介, 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 小舟正文, 坂田修身, 勝矢良雄, 清水勝
    • 学会等名
      2013年(第60回)応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 論文No. 28p-D3-172013

    • 著者名/発表者名
      瀬戸翔太,高田祐介, 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 清水勝
    • 学会等名
      2013年(第60回)応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 論文No. 25-T-222013

    • 著者名/発表者名
      中嶋誠二, 高田祐介, 瀬戸翔太, 坂田修身, 勝矢良雄, 藤沢浩訓, 小舟正文, 清水勝
    • 学会等名
      第30回強誘電体応用会議(FMA-30)
    • 発表場所
      コープイン京都
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] RFプレーナマグネトロンスパッタ法を用いたエピタキシャルBiFeO3薄膜の作製(III)2013

    • 著者名/発表者名
      内田 智久
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(神奈川県)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] FMを用いた強誘電体薄膜の面内および鉛直方向の圧電性評価2013

    • 著者名/発表者名
      瀬戸 翔太
    • 学会等名
      第60回応用物理学会春季学術講演会
    • 発表場所
      神奈川工科大学(神奈川県)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] RFスパッタ法による単一ドメインBiFeO3薄膜の作製と評価2013

    • 著者名/発表者名
      中嶋 誠二
    • 学会等名
      第30回強誘電体応用会議
    • 発表場所
      コープイン京都(京都府)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表]2012

    • 著者名/発表者名
      Y. Takada, S. Seto, S. Nakashima, H. Fujisawa, M. Kobune and M. Shimizu
    • 学会等名
      Abs. of 9th Korea-Japan Conference on Ferroelectrics (KJCFE09)
    • 発表場所
      Ulsan, Korea
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表]2012

    • 著者名/発表者名
      S. Nakashima, Y. Takada, S. Seto, H. Fujisawa, M. Kobune, and M. Shimizu
    • 学会等名
      Abs. of International Conference on Electronic Materials (IUMRSICEM2012)
    • 発表場所
      Yokohama, Japan
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表]2012

    • 著者名/発表者名
      S. Nakashima, Y. Takada, T. Ito, S. Seto, H. Fujisawa, M. Kobune, and M. Shimizu
    • 学会等名
      Abs. of 2012 5th International Conference on Emerging Trends in Engineering and Technology (ICETET)
    • 発表場所
      Himeji, Japan
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表]2012

    • 著者名/発表者名
      S. Nakashima, Y. Takada, S. Seto, H. Fujisawa, M. Kobune and M. Shimizu
    • 学会等名
      Abs. of Mater. Res. Soc. 2012 Fall Meeting
    • 発表場所
      Boston, Massachusetts, U.S.A.
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 論文No. 18P-F5-42012

    • 著者名/発表者名
      高田祐介, 瀬戸翔太, 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 小舟正文, 朴正敏, 金島岳, 奥山雅則, 清水勝
    • 学会等名
      2012年春季(第59回)応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 論文No. 26-M-022012

    • 著者名/発表者名
      中嶋誠二,辻田陽介,瀬戸翔太, 藤沢浩訓,小舟正文,清水勝,朴正敏,金島岳,奥山雅則
    • 学会等名
      第29回強誘電体応用会議(FMA-29)
    • 発表場所
      コープイン京都
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 論文No. 14p-c10-42012

    • 著者名/発表者名
      瀬戸翔太,中嶋誠二,藤沢浩訓,清水勝
    • 学会等名
      2013年(第73回)応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛大学
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 論文No. 13p-c10-92012

    • 著者名/発表者名
      高田祐介, 瀬戸翔太, 中嶋誠二, 藤沢浩訓, 小舟正文, 清水勝
    • 学会等名
      2013年(第73回)応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛大学
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] デュアルイオンビームスパッタにより作製したBiFeO3薄膜のドメイン構造と電気的特性2012

    • 著者名/発表者名
      中嶋 誠二
    • 学会等名
      第29回強誘電体応用会議
    • 発表場所
      コープイン京都(京都府)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Structural and Ferroelectric Properties of Single Domain BiFeO3 Thin Films Prepared by RF Planar Magnetron Sputtering2012

    • 著者名/発表者名
      Seiji Nakashima
    • 学会等名
      International Conference on Electronic Materials (IUMRS-ICEM 2012)
    • 発表場所
      パシフィコ横浜(神奈川県)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Preparation and Characterization of High Quality Lead-free BiFeO3 Thin Films by Sputtering Process2012

    • 著者名/発表者名
      Seiji Nakashima
    • 学会等名
      2012 Fifth International Conference on Emerging Trends in Engineering and Technology (ICETET),
    • 発表場所
      イーグレ姫路(兵庫県)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] High Quality Single Domain BiFeO3 Thin Films Prepared by RF Planar Magnetron Sputtering2012

    • 著者名/発表者名
      Seiji Nakashima
    • 学会等名
      2012 Material Research Society Fall Meeting
    • 発表場所
      Hunes convention center (アメリカ合衆国)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] PFMを用いた強誘電体薄膜の圧電変位量の定量評価2012

    • 著者名/発表者名
      瀬戸 翔太
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛大学(愛媛県)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] RFプレーナマグネトロンスパッタ法を用いたエピタキシャルBiFeO3薄膜の作製(II)2012

    • 著者名/発表者名
      高田 祐介
    • 学会等名
      第73回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      愛媛大学(愛媛県)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Preparation of epitaxial BiFeO3 thin films by RF planar magnetron sputtering2012

    • 著者名/発表者名
      Yusuke Takada
    • 学会等名
      9th Korea-Japan Conference on Ferroelectrics (KJCFE09)
    • 発表場所
      University of Ulsan (韓国)
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] RFプレーナマグネトロンスパッタ法を用いたエピタキシャルBiFeO3薄膜の作製2012

    • 著者名/発表者名
      高田 祐介
    • 学会等名
      2012年春季(第59回)応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      早稲田大学 (東京都)
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表]2011

    • 著者名/発表者名
      S. Nakashima, H. Suminaga, Y. Tsujita, H. Fujisawa, M. Kobune, H. Nishioka , J. M. Park, T. Kanashima, M. Okuyama, and M. Shimizu
    • 学会等名
      Abs. of The 20th IEEE International Symposium on Applications of Ferroelectrics / International Symposium on Piezoresponse Force Microscopy & Nanoscale Phenomena in Polar Materials(ISAF-2011-PFM)
    • 発表場所
      Joint Conference, Vancouver, Canada
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表]2011

    • 著者名/発表者名
      S. Nakashima, Y. Tsujita, H. Fujisawa, M. Kobune, H. Nishioka, J. M. Park, T. Kanashima, M. Okuyama, and M. Shimizu
    • 学会等名
      Abs. of Mater. Res. Soc. 2011 Fall Meeting
    • 発表場所
      Boston, Massachusetts, U.S.A.
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 論文No. 27-M-032011

    • 著者名/発表者名
      中嶋誠二,住永寛幸,辻田陽介,藤沢浩訓,小舟正文,清水勝,朴正敏,金島岳,奥山雅則
    • 学会等名
      第28回強誘電体応用会(FMA-28)
    • 発表場所
      コープイン京都
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 論文No. 31a-C-22011

    • 著者名/発表者名
      辻田陽介,中嶋誠二,藤沢浩訓,西岡洋,小舟正文,朴正敏,金島岳,奥山雅則,清水勝
    • 学会等名
      2011年秋季1(第72回)応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      山形大学
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] 論文No. E-142011

    • 著者名/発表者名
      中嶋誠二,辻田陽介,瀬戸翔太, 藤沢浩訓,小舟正文,清水勝,朴正敏,金島岳,奥山雅則
    • 学会等名
      第21回日本MRS学術シンポジウム
    • 発表場所
      波止場会場
    • 関連する報告書
      2012 研究成果報告書
  • [学会発表] デュアルイオンビームスパッタを用いたSrRuO3/SrTiO3 基板上へのBiFeO3薄膜の作製2011

    • 著者名/発表者名
      中嶋 誠二
    • 学会等名
      第28回強誘電体応用会議
    • 発表場所
      コープイン京都(京都府)
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Growth of High Quality BiFeO3 Thin Films by Dual Ion Beam Sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      Seiji Nakashima
    • 学会等名
      2011 International Symposium on Applications of Ferroelectrics (ISAF/PFM 2011) and 2011 International Symposium on Piezoresponse Force Microscopy and Nanoscale Phenomena in Polar Materials
    • 発表場所
      The Westin Bayshore hotel (カナダ)
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] デュアルイオンビームスパッタ法を用いたBiFeO3薄膜の作製(II)2011

    • 著者名/発表者名
      辻田 陽介
    • 学会等名
      2011年秋季1(第72回)応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      山形大学(山形県)
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] デュアルイオンビームスパッタ法により作製したノンドープBiFeO3薄膜ドメイン構造と強誘電性ヒステリシスループ2011

    • 著者名/発表者名
      中嶋 誠二
    • 学会等名
      第21回日本MRS学術シンポジウム
    • 発表場所
      波止場会館(神奈川県)
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書
  • [学会発表] Low Pressure Growth and Fully Saturated Hysteresis Loops of Epitaxial BiFeO3 Thin Films Prepared by Dual Ion Beam Sputtering2011

    • 著者名/発表者名
      Seiji Nakashima
    • 学会等名
      2011 Material Research Society Fall Meeting
    • 発表場所
      Hynes convention center (アメリカ)
    • 関連する報告書
      2011 実施状況報告書

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公開日: 2011-08-05   更新日: 2019-07-29  

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