研究概要 |
Bi2Sr2CaCu2O8+δ 単結晶を用いてReRAMを作製しその結晶学的特徴と超伝導特性を利用することで, メモリ効果の発現にはBi-2212に酸素欠乏層を導入する必要があり, ギブズエネルギーの小さな電極に電極界面近傍の酸素を奪わせることでその実現が可能であることを明らかにした. 強電界によってBi-2212の酸素イオンを移動させ, 酸素欠乏層を修復/生成(酸化/還元)させることでセット/リセットが生じるモデルを提案した. 更に, Ptの触媒効果を利用して水素イオンH+をBi-2212内に効率的に導入することでも, メモリ効果の発現及び抵抗値の制御が可能であることを初めて明らかにした.
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