| 研究課題/領域番号 |
23760703
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| 研究種目 |
若手研究(B)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 工学院大学 |
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研究代表者 |
阿相 英孝 工学院大学, 工学部, 准教授 (80338277)
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| 研究期間 (年度) |
2011 – 2013
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| 研究課題ステータス |
完了 (2013年度)
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| 配分額 *注記 |
4,290千円 (直接経費: 3,300千円、間接経費: 990千円)
2013年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2012年度: 1,170千円 (直接経費: 900千円、間接経費: 270千円)
2011年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
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| キーワード | 微細加工 / 構造転写技術 / 材料加工・処理 / アノード酸化 / コロイド結晶 |
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| 研究概要 |
Alや半導体などの基板上に規則的なパターンを作製するために，周期的な開口部を持つフォトレジスト製マスクを，光リソグラフィー技術を応用して作製した。マスク開口部の径や周期は，集光レンズとして用いたシリカ微粒子の粒径や露光時間によって制御できた。例えば，最密充填配置の開口部を持つマスクを介して，InPのアノードエッチングにおける孔の成長過程を調査した。マスク内の孤立した開口部は，孔の発生位置として作用し二次元平面で規則的な幾何学パターンの形成をもたらした。自発的に形成されるパターンを利用したナチュラルリソグラフィーは，広範囲で規則的な表面を形成する基礎研究に対して新たな手法を提案すると期待できる。
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