構造が精密に制御されたファンデルワールス界面における熱電応答

• 研究課題/領域番号: 23H00259
• 研究種目: 基盤研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 中区分28:ナノマイクロ科学およびその関連分野
• 研究機関: 東京都立大学
• 研究代表者: 柳 和宏 東京都立大学, 理学研究科, 教授 (30415757)
• 研究分担者: 山本 貴博 東京理科大学, 理学部第一部物理学科, 教授 (30408695) ; 平原 佳織 大阪大学, 大学院工学研究科, 准教授 (40422795)
• 研究期間 (年度): 2023-04-01 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 47,060千円 (直接経費: 36,200千円、間接経費: 10,860千円); 2024年度: 18,850千円 (直接経費: 14,500千円、間接経費: 4,350千円); 2023年度: 13,910千円 (直接経費: 10,700千円、間接経費: 3,210千円)
• キーワード: 界面熱電応答 / ナノチューブ / 原子層 / 配列制御 / 積層科学 / ファンデルワールス界面 / 熱電応答

研究開始時の研究の概要

本研究では、界面構造が精密に制御された１次元・２次元ファンデルワールス(vdW)界面を創出し、その界面構造と熱伝導・電気伝導の相関、更には熱起電力との関係を解き明かすことが目標である。その為の計測技術開発を進め、薄膜熱電物性測定技術および電子顕微鏡観察下での物性計測技術を駆使して解き明かし、基礎理論・計算科学でその物理的背景を理解する。フォノン非調和・格子不整合・質量ミスマッチなvdW界面における熱電応答を、化学ポテンシャルや接合構造を系統的に変えつつ解き明かし、熱電変換の観点からの界面設計提案を行い、微視的・巨視的の両方のアプローチでvdW界面における熱電応答の学理を深耕する。