研究課題/領域番号 |
23H01723
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分26050:材料加工および組織制御関連
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研究機関 | 山形大学 |
研究代表者 |
西山 宏昭 山形大学, 大学院理工学研究科, 准教授 (80403153)
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研究期間 (年度) |
2023-04-01 – 2027-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
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配分額 *注記 |
18,720千円 (直接経費: 14,400千円、間接経費: 4,320千円)
2023年度: 6,370千円 (直接経費: 4,900千円、間接経費: 1,470千円)
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キーワード | フェムト秒レーザー / ナノ粒子 / アセンブリー / 対流 |
研究開始時の研究の概要 |
レーザー直接描画手法は,照射部走査によって付加的に材料を連続形成していくプロセスであり,これまでに微細電極やセンサーなどが形成されてきた.集光部では光重合や熱焼結などが起こり有用なプロセスであるが,その適用は感光性材料に限定されてきた.この強い材料制限に対し,我々は,超広域材料選択性を有するレーザー描画手法を開発してきた.この手法は,集光部で起こる特異的な光駆動対流に基づいており,我々はその機構解明を進めてきた.本研究では,このこれまでの我々の提案仮説を元に,集光部で光析出する金属形状をマイクロ3D化し,対流の起源となるバブル表面の巨大温度勾配の制御を行う.
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