研究課題/領域番号 |
23H01728
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分26050:材料加工および組織制御関連
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研究機関 | 京都大学 |
研究代表者 |
江利口 浩二 京都大学, 工学研究科, 教授 (70419448)
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研究期間 (年度) |
2023-04-01 – 2026-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
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配分額 *注記 |
19,240千円 (直接経費: 14,800千円、間接経費: 4,440千円)
2023年度: 11,830千円 (直接経費: 9,100千円、間接経費: 2,730千円)
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キーワード | 窒化ホウ素 / 高密度プラズマ / トンネルリーク電流 |
研究開始時の研究の概要 |
本研究では、超高密度磁場印加型アーク放電により作製する窒化ホウ素膜ナノ結晶集合体の誘電分散解析、高信頼性BN膜設計指針の確立が主要テーマである。特に、インピーダンス分光法を中心とする物性(電気特性)解析を通して、BNナノ結晶集合体の過渡・経時応答メカニズムの解明、そしてBN膜の経時劣化モデル(BNナノ結晶集合体の信頼性物理学)の構築を目指す。
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