研究課題/領域番号 |
23H01884
|
研究種目 |
基盤研究(B)
|
配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分30020:光工学および光量子科学関連
|
研究機関 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 |
研究代表者 |
石野 雅彦 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 関西光量子科学研究所 量子応用光学研究部, 上席研究員 (80360410)
|
研究分担者 |
長谷川 登 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構, 関西光量子科学研究所 量子応用光学研究部, 主幹研究員 (50360409)
|
研究期間 (年度) |
2023-04-01 – 2026-03-31
|
研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
|
配分額 *注記 |
18,720千円 (直接経費: 14,400千円、間接経費: 4,320千円)
2023年度: 12,480千円 (直接経費: 9,600千円、間接経費: 2,880千円)
|
キーワード | 軟X線レーザー / 軟X線顕微鏡 / レーザー干渉計 / アブレーション |
研究開始時の研究の概要 |
本研究の概要は、高強度パルスレーザーが起こすアブレーション機構やレーザー加工における非熱的加工の学理を解明することを目的として、アブレーションによって発生する物質表面の損傷構造の形成過程を100ナノメートルスケールの空間分解能と100フェムト秒以下の時間分解能で可視化する軟X線レーザー干渉顕微鏡の開発を行い、これを用いて損傷形成の過程を実空間・実時間で観察することである。これにより、実際のアブレーション現象を忠実に描画する理論モデルの構築と、これに基づくアブレーション機構の解明を目指した研究を行う。
|