研究課題/領域番号 |
23H01971
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分34010:無機・錯体化学関連
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研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
石井 和之 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (20282022)
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研究期間 (年度) |
2023-04-01 – 2026-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
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配分額 *注記 |
19,370千円 (直接経費: 14,900千円、間接経費: 4,470千円)
2023年度: 13,780千円 (直接経費: 10,600千円、間接経費: 3,180千円)
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キーワード | 光励起多重項状態 / ポルフィリン / スピンースピン相互作用 / スピン軌道相互作用 |
研究開始時の研究の概要 |
本研究では、研究代表者が見出した有機ラジカルの電子スピンと光励起後生成する励起三重項スピンから構成される『光励起多重項状態』をプラットフォームとし、重原子のスピン軌道相互作用と有機ラジカルスピンとのスピン-スピン相互作用の競合を定量的に評価する方法を確立する。さらに『有機ラジカルスピンの反応』により細胞内におけるレドックス電位の変動を可視化する技術などの開発を目指す。
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