原料分子のパルスプラズマ分解によるカーボン膜形成とその反応の解明

• 研究課題/領域番号: 23K03372
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分14030:プラズマ応用科学関連
• 研究機関: 福岡大学
• 研究代表者: 篠原 正典 福岡大学, 工学部, 教授 (80346931)
• 研究期間 (年度): 2023-04-01 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2023年度)
• 配分額: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円); 2025年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2024年度: 1,040千円 (直接経費: 800千円、間接経費: 240千円); 2023年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
• キーワード: pulse plasma / carbon films / source molecules / decomposition / deposition

研究開始時の研究の概要

本研究のねらいは、分子量の大きい分子を原料としてパルスプラズマ放電により分子を分解し成膜を行う新たな成膜法を確立することにある。異常放電を引き起こさないように、制御されたパルス電力を与えてプラズマを生成し、原料分子中の切断したい結合のみをうまく解離して成膜を行う方法を構築することも本研究の範疇である。産業応用も視野に入れ、新規機能を持つアモルファス状の炭素膜やグラフェンを低温での形成を目指す。プラズマ気相およびプラズマ－表面相互作用の計測も視野に入れ、分子量の大きい原料分子が膜となっていく反応を原子レベルで明らかにすることも本研究の範疇である。