研究課題/領域番号 |
23K03627
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分18020:加工学および生産工学関連
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研究機関 | 愛知工業大学 |
研究代表者 |
清家 善之 愛知工業大学, 工学部, 教授 (70584069)
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研究分担者 |
森 竜雄 愛知工業大学, 工学部, 教授 (40230073)
真田 俊之 静岡大学, 工学部, 教授 (50403978)
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研究期間 (年度) |
2023-04-01 – 2026-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
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配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2025年度: 650千円 (直接経費: 500千円、間接経費: 150千円)
2024年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
2023年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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キーワード | 半導体 / 静電気障害 / 誘導帯電 / 洗浄 / スプレー |
研究開始時の研究の概要 |
半導体はすべて産業の基盤であり、現在日本ではこの半導体産業の復権を目指している。半導体のスプレー洗浄はパーティクル除去やレジスト剥離等で有効な手法であるが、純水をスプレーするためにデバイスに静電気障害を生じさせるという課題がある。従来、この静電気障害の対策は純水に炭酸ガスを注入し、純水の比抵抗値を下げて行っていたが、SGDsの観点からCO2の使用量を減らす必要がある。また配線幅数ナノメートルの最先端半導体の微細化に伴い、静電気障害が生じやすいために、早急にこの問題を解決する必要がある。本研究は半導体の静電気障害を誘導帯電技術とAI技術を駆使して、これらの課題を解決することである。
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