研究課題
基盤研究(C)
申請者らは自動車の内燃機関で用いられている減圧沸騰噴霧の制御技術を化学気相堆積法に応用した気化供給法(以下,Flashing-Spray CVD法)を提案している.本研究課題は本手法におおける高沸点の成膜原料と低沸点の有機溶剤からなる溶液の蒸発と薄膜形成の関係を明らかにすることを目的としている.具体的には以下の項目について研究を遂行する.・ 薄膜形成条件(真空)における成膜原料-低沸点有機溶剤混合溶液の減圧沸騰過程を把握する.・ 真空における混合溶液の減圧沸騰蒸発モデルを構築する.・ 薄膜形成に至る化学反応過程を把握する.