金属ナノ粒子にエバネッセント光を照射して形成する極小点熱源とその応用

• 研究課題/領域番号: 23K03732
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分20010:機械力学およびメカトロニクス関連
• 研究機関: 東京電機大学
• 研究代表者: 松谷 巌 東京電機大学, 理工学部, 准教授 (00514465)
• 研究期間 (年度): 2023-04-01 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2023年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2025年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2024年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2023年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
• キーワード: エバネッセント光 / 金属ナノ粒子

研究開始時の研究の概要

本研究は、液体中で金属ナノ粒子にE光を照射して励起したアブレーションの衝撃的な圧力によって液滴を噴射する技術、および液中の微小物質を拡散する技術を開発する。3次元的に位置が制御されてなおかつ関係の無い部位には非侵襲であるような、極小点の領域を熱源としたアブレーション発生技術ができれば非常に有益である。3年間で以下の2項目を実施する。
[1] 金属ナノ粒子にE光を照射したときの電界強度に関する基礎検討
[2] 金属ナノ粒子×E光による液滴の噴射および微小物質の拡散に関する検討