研究課題
基盤研究(C)
高い成膜速度ならびに結晶の巨大化を行う低密度マルチパルスプラズマを用いたスパッタ方式と比較的低い成膜速度ながらも緻密化ならびに微結晶化を行う高密度マルチパルスプラズマを用いたスパッタ方式の組み合わせにより材料の構造を調整しながら所望の薄膜材料特性を実現する。遷移金属窒化物やダイヤモンドライクカーボンなどのハードコーティング材料および 赤外光の反射率が材料の温度に依存することからスマートウインドウへの応用が期待される二酸化バナジウムや光触媒機能を有する二酸化チタンなどの金属酸化物を作成する。