研究課題/領域番号 |
23K03982
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分21060:電子デバイスおよび電子機器関連
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研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
研究代表者 |
高 磊 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (40650429)
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研究分担者 |
石澤 淳 日本大学, 生産工学部, 教授 (30393797)
北 智洋 早稲田大学, 理工学術院, 教授 (40466537)
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研究期間 (年度) |
2023-04-01 – 2026-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
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配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2025年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2024年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
2023年度: 2,080千円 (直接経費: 1,600千円、間接経費: 480千円)
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キーワード | シリコンフォトニクス / 薄膜転写プリント / 光周波数コム / 非線形光学 / 波長分散制御 |
研究開始時の研究の概要 |
長さや周波数,時間の計量および標準策定に貢献する光コム技術の普及をめざし,微小領域転写プリント法(μ-Transfer Printing:μ-TP)による材料接合および非線形光学効果を利用した超広帯域光コムの発生を目指す.Siは非常に大きな3次非線形応答を有する一方,高い材料屈折率や強い光閉じ込めによる急峻な分散応答の抑制が困難であった.本研究では,先駆的な光導波路加工と異種材料接合技術を融合することでSi-SiO2-Si積層によるハイブリッドスロット導波モードを形成し,ゼロ分散波長を既存の2点から4点に増やす.その結果,波長1~2 μm帯全域に広がる近/中赤外光コム発生を実現する.
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