研究課題/領域番号 |
23K04394
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分26030:複合材料および界面関連
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研究機関 | 山梨大学 |
研究代表者 |
佐藤 哲也 山梨大学, 大学院総合研究部, 准教授 (60252011)
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研究期間 (年度) |
2023-04-01 – 2026-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
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配分額 *注記 |
4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
2025年度: 390千円 (直接経費: 300千円、間接経費: 90千円)
2024年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2023年度: 3,120千円 (直接経費: 2,400千円、間接経費: 720千円)
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キーワード | PTFE / 薄膜 / フルオロカーボン / 電子励起 / 低温 |
研究開始時の研究の概要 |
地球温室効果ガスの削減対象であるフルオロカーボンを有効利用し、凝縮(分子氷)する低温において、PTFE(ポリテトラフルオロエチレン)薄膜の新規合成プロセス技術を開発する。これまで得られたフッ素含有非晶質カーボン(a-C:F)の組成/構造制御の知見を基に無機・有機基材表面に優れた密着性と熱的安定性を実現し、繊維、有機フィルム、金属、絶縁体等、種々の素材表面を極薄膜で被覆するための低温プロセス技術を開発する。これを、繊維・和紙の超撥水性、射出成型用金型表面の離型性、半導体製造工程におけるエッチング耐久性、等の改善に応用し、新規表面改質法の有効性を検証する。
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