研究課題/領域番号 |
23K04432
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分26050:材料加工および組織制御関連
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研究機関 | 東京工業大学 |
研究代表者 |
Gubarevich Anna 東京工業大学, 科学技術創成研究院, 助教 (40447529)
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研究期間 (年度) |
2023-04-01 – 2026-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
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配分額 *注記 |
3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2025年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2024年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2023年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
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キーワード | 焼結 / 非酸化物セラミックス / 電磁誘導 / 炭化ホウ素 / 誘導加熱 |
研究開始時の研究の概要 |
近年、セラミックス加工における省エネルギー化手法が注目されている。酸化物セラミックスに対しては、コールドシンタリング等の新しい焼結手法が開発されているが、炭化ホウ素や炭化ケイ素等の非酸化物セラミックスは、焼結に高温、加圧、長時間を従前通り必要とされており、省エネルギー新手法の開発が強く望まれている。そこで、本研究では、 非酸化物セラミックスの高温電気伝導度に焦点を当て、高速焼結法として高周波電磁誘導効果に着目した。高周波誘導加熱装置を用いて無加圧、助剤無添加の条件下で非酸化物セラミックスの焼結実験を行い、高周波電磁誘導効果を利用した非酸化物セラミックスの常圧高速焼結法の有効性を明らかにする。
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