研究課題
基盤研究(C)
セラミックス技術の根幹である焼結では、電場やマイクロ波などの外場の支援（FAST）による高速化・低温化の研究が盛んに行われるようになった。FASTの中で近年、注目を集めているフラッシュ焼結は、数秒から数分の極めて短い時間スケールで多様な微構造を形成することができる特異なプロセスである。本研究では、歯科医療の分野で高速焼結に対す要請のあるジルコニアにおいて、フラッシュ焼結および電場の影響を排除した外部加熱のみで同等の加熱速度の焼結を試みる。それぞれの焼結プロセスにおける微構造形成を系統的に調べることで、超がつくほどの速い昇温速度における微構造形成に及ぼす電場の影響を明らかにすることを目的とする。
