| 研究課題/領域番号 |
23K04536
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 審査区分 |
小区分28030:ナノ材料科学関連
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| 研究機関 | 広島大学 |
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研究代表者 |
鈴木 仁 広島大学, 先進理工系科学研究科(先), 准教授 (60359099)
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| 研究分担者 |
田中 秀吉 国立研究開発法人情報通信研究機構, 未来ICT研究所神戸フロンティア研究センター, 研究センター長 (40284608)
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| 研究期間 (年度) |
2023-04-01 – 2026-03-31
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| 研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
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| 配分額 *注記 |
4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2025年度: 910千円 (直接経費: 700千円、間接経費: 210千円)
2024年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円)
2023年度: 2,340千円 (直接経費: 1,800千円、間接経費: 540千円)
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| キーワード | グラフェンナノメッシュ / ボトムアップ |
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| 研究開始時の研究の概要 |
電子デバイスへの応用が期待されているグラフェンナノメッシュにおいて，穴の配列や間隔などの構造を精密に制御する技術は未踏であり，その構造と電子特性の相関は実験的に解明されていない．本研究では，前駆体となる芳香族有機分子を触媒機能を有する加熱銅表面に接触させてラジカル化させ，それらを超高真空中の基板上でボトムアップ的に重合させることで，絶縁体基板上に精密に構造制御されたナノメッシュ構造を直接作製する技術を開発する．さらに形成されたナノメッシュ構造の解析とその本質的な電子特性を実験的に解明することをめざす．
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