研究課題/領域番号 |
23K04579
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分29020:薄膜および表面界面物性関連
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研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
一色 弘成 東京大学, 物性研究所, 助教 (80812635)
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研究期間 (年度) |
2023-04-01 – 2026-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
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配分額 *注記 |
4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円)
2025年度: 130千円 (直接経費: 100千円、間接経費: 30千円)
2024年度: 130千円 (直接経費: 100千円、間接経費: 30千円)
2023年度: 4,420千円 (直接経費: 3,400千円、間接経費: 1,020千円)
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キーワード | 磁気イメージング / 原子間力顕微鏡 / 異常ネルンスト効果 |
研究開始時の研究の概要 |
本研究では、原子間力顕微鏡を用いた新しい磁気イメージング手法の開発する。探針を試料に接触させることにより局所的な温度勾配を作り、異常ネルンスト効果で生じる電圧を試料両端の電極で検出する。この電圧は、試料の磁化の向きに応じて変化する。接触モードでスキャンしながら、異常ネルンスト電圧を試料内部でマッピングすることにより試料の磁気像を得ることができる。これにより、非常に簡易的に高空間分解能な磁気像を得ることができると期待される。
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