ヒドロアリール化反応を利用した副生成物を排出しない高分子半導体合成技術の開発

• 研究課題/領域番号: 23K04835
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分35010:高分子化学関連
• 研究機関: 筑波大学
• 研究代表者: 神原 貴樹 筑波大学, 数理物質系, 教授 (90204809)
• 研究期間 (年度): 2023-04-01 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2023年度)
• 配分額: 4,810千円 (直接経費: 3,700千円、間接経費: 1,110千円); 2025年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2024年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2023年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
• キーワード: 高分子合成 / 有機金属化学 / 高分子半導体 / 重付加 / ヒドロアリール化反応

研究開始時の研究の概要

本研究は、芳香族化合物のC-H結合を反応点とするヒドロアリール化反応を利用した重付加反応により、種々のアリーレンビニレン型π共役高分子を合成する技術開発を行う。重付加反応は、本質的に副生成物を排出しない。従って、従来の重縮合による合成では避けられなかった副生成物の発生要因を重合工程から排除し、簡便な分離・精製操作で高純度な高分子半導体を容易に提供できる。さらには得られた高分子の基礎物性や電子・光機能を明らかにすることで、高分子半導体の合成技術としての本研究の意義を明確にする。