神経外胚葉分化における、ヘパラン硫酸修飾酵素によるモルフォゲンの分布制御

• 研究課題/領域番号: 23K05791
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 基金
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分44020:発生生物学関連
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 山元 孝佳 東京大学, 大学院総合文化研究科, 助教 (70724699)
• 研究分担者: 道上 達男 東京大学, 大学院総合文化研究科, 教授 (10282724)
• 研究期間 (年度): 2023-04-01 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2023年度)
• 配分額: 4,680千円 (直接経費: 3,600千円、間接経費: 1,080千円); 2025年度: 1,300千円 (直接経費: 1,000千円、間接経費: 300千円); 2024年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2023年度: 1,950千円 (直接経費: 1,500千円、間接経費: 450千円)
• キーワード: モルフォゲン / ヘパラン硫酸 / 濃度勾配

研究開始時の研究の概要

多様な化学修飾パターンを持つヘパラン硫酸（HS）は、Wnt等のモルフォゲンに結合することでその濃度勾配やシグナル伝達を制御する。これまで我々は２つのHS修飾に着目し、細胞内への取り込み頻度が異なることを明らかにした。しかしHS修飾の発生過程における役割はほとんど不明である。そこで本研究では、既存の単純な濃度勾配モデルでは説明できないパターニングの見られる神経外胚葉分化を対象として、そのパターニングを担う複数のモルフォゲンに対するHS修飾の効果を調べる。