ジケトン分子吸着過程およびガスクラスターイオンビーム照射による表面反応過程の解明

• 研究課題/領域番号: 23K13236
• 研究種目: 若手研究
• 配分区分: 基金
• 審査区分: 小区分18020:加工学および生産工学関連
• 研究機関: 兵庫県立大学
• 研究代表者: 竹内 雅耶 兵庫県立大学, 工学研究科, 助教 (70889683)
• 研究期間 (年度): 2023-04-01 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2023年度)
• 配分額: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円); 2025年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2024年度: 1,430千円 (直接経費: 1,100千円、間接経費: 330千円); 2023年度: 1,690千円 (直接経費: 1,300千円、間接経費: 390千円)
• キーワード: ガスクラスターイオンビーム / 原子層エッチング / 窒化シリコン

研究開始時の研究の概要

近年、溶液セルに液体を封止し溶液から励起された光電子の検出が可能となっているが、そのセルの光電子検出窓（SiNx膜）の極薄化は、その検出感度を大きく向上させる。我々は低損傷照射効果を示すガスクラスターイオンビームとジケトン分子を組み合わせた、SiNx膜の薄化技術を初めて提案・実証を行い、溶液セル窓極薄化への有効性を示してきた。しかし、SiNx膜に対するジケトン分子吸着機構およびGCIB照射による表面分子脱離機構はほとんど解明されていない。本研究ではその反応過程やエッチングメカニズムを明らかにすることにより、耐圧性の劣化を極限まで抑制した状態でSiNx膜の極薄化を目指す。