研究課題/領域番号 |
23K22685
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分19020:熱工学関連
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研究機関 | 名古屋工業大学 |
研究代表者 |
齋木 悠 名古屋工業大学, 工学(系)研究科(研究院), 准教授 (60550499)
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研究分担者 |
杵淵 郁也 東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 准教授 (30456165)
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研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2025-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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配分額 *注記 |
1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
2024年度: 1,820千円 (直接経費: 1,400千円、間接経費: 420千円)
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キーワード | 燃焼 / プラズマ / 表面反応 / ラジカル / 分子線散乱・昇温脱離 |
研究開始時の研究の概要 |
燃焼機器やプラズマ発生装置などの化学反応を伴うエネルギー機器の高性能化においては,反応性の高い活性化学種(ラジカル)の固体表面上での化学反応の理解と予測が極めて重要となる.本研究では,工業的に特に重要な,水素原子,酸素原子,窒素原子などの原子状ラジカルを対象とし,プラズマ分子線散乱技術,プラズマ昇温脱離技術などの全く新しい独自の計測手法により,これらラジカルの表面反応プロセスを解明・モデリングすることを目的とする.
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