研究課題/領域番号 |
23K22741
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分21010:電力工学関連
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研究機関 | 豊橋技術科学大学 |
研究代表者 |
滝川 浩史 豊橋技術科学大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (90226952)
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研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2025-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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配分額 *注記 |
2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
2024年度: 2,990千円 (直接経費: 2,300千円、間接経費: 690千円)
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キーワード | ハードコーティング / 窒化物薄膜 / DLC膜 / フィルタードアーク蒸着 / 高速成膜 |
研究開始時の研究の概要 |
金属窒化物保護膜に適した新規のフィルタードアーク蒸着源(FAD)を開発する。新FADでは,陰極-被蒸着物間距離を短く保ちつつ,ドロップレットを効率的に除去しながらプラズマを輸送できる新規装置構造(プラズマ輸送磁界形成コイル兼ドロップレットフィルタ陽極)を導入する。これにより,成膜速度を保つ一方で,ドロップレット量の抑制が期待できる。ドロップレット量に直接的に寄与する陰極点の挙動の制御を実験的に検討すると共に,磁束密度分布を計測し,磁界と陰極点運動との関係の理解を深める。ノンフィルタに対してドロップレット数1/1000,成膜速度1/3確保を目標として,精密加工具(精密タップ等)などへの適用可能性を探る。
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