研究課題/領域番号 |
23K23054
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分26020:無機材料および物性関連
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研究機関 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 |
研究代表者 |
藤尾 侑輝 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 主任研究員 (90635799)
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研究分担者 |
野村 健一 国立研究開発法人産業技術総合研究所, エレクトロニクス・製造領域, 研究チーム長 (00580078)
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研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2025-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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配分額 *注記 |
3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
2024年度: 3,510千円 (直接経費: 2,700千円、間接経費: 810千円)
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キーワード | 光化学反応 / 無電源高原 / 深紫外発光 / 3次元微細構造 / デバイス製造技術 |
研究開始時の研究の概要 |
ナノ空間における力応答の深紫外光照射技術(自立ナノ光源)の開発は、生命科学における微生物・細胞・分子レベルのナノ空間の光反応場を創出できる点で次世代光技術開発に重要な意義を持つ。申請者らは、外部からの力で自在に発光・消光する応力発光体の材料創製や機構解明、発光分布計測による応力分布可視化に関して世界に先駆けた取り組みを展開してきた。本研究では、ナノ空間での局所的光反応場を実現する“深紫外応力発光体の創製と微小力応答性多孔積層構造”にかかる基盤技術の開発に取り組んでいる。
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