研究課題/領域番号 |
23K23185
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 基金 |
応募区分 | 一般 |
審査区分 |
小区分28030:ナノ材料科学関連
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研究機関 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 |
研究代表者 |
石井 智 国立研究開発法人物質・材料研究機構, ナノアーキテクトニクス材料研究センター, チームリーダー (80704725)
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研究期間 (年度) |
2024-04-01 – 2025-03-31
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研究課題ステータス |
交付 (2024年度)
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配分額 *注記 |
2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
2024年度: 2,860千円 (直接経費: 2,200千円、間接経費: 660千円)
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キーワード | 熱ふく射 / 光冷却 / 微細構造 |
研究開始時の研究の概要 |
本研究では、熱ふく射による放射冷却と、アンチストークス蛍光のふく射による光冷却を対象とする。どちらもふく射することによって冷える現象であり、前者は主に中赤外域、後者は主に近赤外域でのふく射である。これら2つの現象の冷却能力はふく射する材料に固有であるが、本研究では微細構造によってふく射を増大し、2つの冷却能力をそれぞれ高めることを実験と計算の両面から取り組む。
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