• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

SnSの欠陥化学の探究と薄膜トランジスタへの展開

研究課題

研究課題/領域番号 23K23431
補助金の研究課題番号 22H02163 (2022-2023)
研究種目

基盤研究(B)

配分区分基金 (2024)
補助金 (2022-2023)
応募区分一般
審査区分 小区分36010:無機物質および無機材料化学関連
研究機関山梨大学

研究代表者

柳 博  山梨大学, 大学院総合研究部, 教授 (30361794)

研究分担者 有元 圭介  山梨大学, 大学院総合研究部, 准教授 (30345699)
研究期間 (年度) 2022-04-01 – 2025-03-31
研究課題ステータス 交付 (2024年度)
配分額 *注記
17,940千円 (直接経費: 13,800千円、間接経費: 4,140千円)
2024年度: 3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2023年度: 3,900千円 (直接経費: 3,000千円、間接経費: 900千円)
2022年度: 10,400千円 (直接経費: 8,000千円、間接経費: 2,400千円)
キーワードSnS / TFT / キャリア制御 / 真空蒸着
研究開始時の研究の概要

本研究ではn型化を実現した研究代表者の材料設計仮説をさらに展開することで真性半導体SnS単結晶を実現し、その欠陥抑制メカニズムを解明することで仮説を検証する。さらにこの成果を基に作製したSnS薄膜を用い、研究分担者が中心となってTFTデバイス作製プロセスを検討し高性能pチャンネルTFT、アンバイポーラTFTを実証しSnSを用いた次世代デバイスの作製指針を提言する。これらの成果を通して硫化物半導体の欠陥化学解明にも貢献する。

研究実績の概要

n型SnSのキャリア濃度制御を実現することが大きな課題であった。特にn型においてはClドープを用いるとキャリア濃度が10^17 ~ 10^18 cm^-3と高すぎた。そこでSnI2存在下で単結晶を育成することでキャリア濃度が10^13 cm^-3n型SnS単結晶とキャリア濃度が10^14 cm^-3のp型SnS単結晶を実現した。これはI-はイオン半径が大きいことからS2-サイトには置換されないと考えられること、また電気陰性度が大きいことからSn4-の生成を抑制されることが期待された通り生じたためと考えている。さらにSnCl2とSnI2の混合フラックスを用いることでキャリア濃度の制御を実現した。今回得られた知見をもとにSnS薄膜の物性制御に生かしていく。
昨年度までに決定したトップゲート型素子構造を実現するためにSiO2絶縁膜作成の最適化を行った。製膜にはRFマグネトロンスパッタリング法を採用した。SnS膜質に影響を最小限に抑えるために室温で製膜した。製膜条件の最適化によりリーク電流が充分に低い絶縁膜の作成を実現した。その後フォトリソグラフィ法により素子構造を作成しデバイス評価を行った。リーク電流の抑制はできたもののデバイス特性は充分ではなかった。これはp型SnSの伝導性が高すぎることが考えられる、キャリア濃度の抑制が課題である。n型SnSは実現しているためSnS組成比と適切なドーパントの導入により低キャリア濃度p型SnS薄膜は実現できると考えている。

現在までの達成度 (区分)
現在までの達成度 (区分)

2: おおむね順調に進展している

理由

昨年度からの課題であったSnS薄膜上に製膜するSiO2絶縁膜の作製手法を確立することができた。RFマグネトロンスパッタリング法を用いて製膜条件を最適化することでSnS層に有意なダメージを与えることなくリーク電流を抑制した絶縁膜を実現した。またこの絶縁膜を用いたトップゲート型の施策を行い、次の課題がSnS半導体層の導電性制御であることを明らかにした。

今後の研究の推進方策

昨年度からの課題であったゲート絶縁膜の作製条件の確立ができた。トップゲート型素子を作製したところ、SnS半導体層の導電性のさらなる制御が課題であることが明らかとなった。我々はSnS単結晶において伝導型をp型からn型まで制御する技術を確立しているので、これをSnS製膜に応用することで研究目的の達成を目指す。

報告書

(2件)
  • 2023 実績報告書
  • 2022 実績報告書
  • 研究成果

    (8件)

すべて 2023 2022 その他

すべて 雑誌論文 (1件) (うち査読あり 1件) 学会発表 (6件) (うち国際学会 3件) 備考 (1件)

  • [雑誌論文] Br-doped n-type SnS single crystals with carrier concentrations suitable for homojunction solar cells2023

    • 著者名/発表者名
      Iguchi Yuki、Sato Koichi、Inoue Kazutoshi、Fukui Keiga、Yanagi Hiroshi
    • 雑誌名

      Solid State Sciences

      巻: 140 ページ: 107206-107206

    • DOI

      10.1016/j.solidstatesciences.2023.107206

    • 関連する報告書
      2023 実績報告書 2022 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] SnS Thin Films Vacuum Evaporated Using SnS and SnS2 Mixed Powders2023

    • 著者名/発表者名
      Mahiro Ohmori, Tatsuki Yonekura, Kaori Omata, Keiga Fukui, Hiroshi Yanagi
    • 学会等名
      MRM 2023 & TCM-TOEO 2023
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Surface Morphology of SnS Polycrystallin2023

    • 著者名/発表者名
      Kaito Takei, Tatsuki Yonekura, Keiga Fukui, Kaori Omata, Keisuke Arimoto, Hiroshi Yanagi
    • 学会等名
      MRM 2023 & TCM-TOEO 2023
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Preparation of Cl-doped n-Type SnS Using SnI2 and SnCl2 Mixed Flux2023

    • 著者名/発表者名
      Takuro Shiratori, Keiga Fukui, Kaori Omata, Hiroshi Yanagi
    • 学会等名
      MRM 2023 & TCM-TOEO 2023
    • 関連する報告書
      2023 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] 単純固化法により育成したn 型SnS 単結晶の電気特性2023

    • 著者名/発表者名
      白鳥 拓郎、福井 慧賀、柳 博
    • 学会等名
      第61回セラミックス基礎科学討論会
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [学会発表] 真空蒸着SnS薄膜を用いたpチャネル薄膜トランジスタの試作2023

    • 著者名/発表者名
      米倉 樹、武井 海人、福井 慧賀、有元 圭介、柳 博
    • 学会等名
      第61回セラミックス基礎科学討論会
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [学会発表] SnI2を用いたSnS単結晶の育成と電気特性2022

    • 著者名/発表者名
      白鳥 拓郎、柳 博、福井 慧賀
    • 学会等名
      第83回応用物理学会秋季学術講演会
    • 関連する報告書
      2022 実績報告書
  • [備考] 山梨大学工学部応用化学科柳研究室

    • URL

      https://www.ccn.yamanashi.ac.jp/~hyanagi/index.html

    • 関連する報告書
      2022 実績報告書

URL: 

公開日: 2022-04-19   更新日: 2024-12-25  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi