高周波電流の力学的相互作用を利用した原子スケール異材界面制御手法の創出

• 研究課題/領域番号: 23K25996
• 補助金の研究課題番号: 23H01301 (2023)
• 研究種目: 基盤研究(B)
• 配分区分: 基金 (2024); 補助金 (2023)
• 応募区分: 一般
• 審査区分: 小区分18010:材料力学および機械材料関連
• 研究機関: 名古屋大学
• 研究代表者: 徳 悠葵 名古屋大学, 工学研究科, 准教授 (60750180)
• 研究期間 (年度): 2023-04-01 – 2026-03-31
• 研究課題ステータス: 交付 (2024年度)
• 配分額: 18,980千円 (直接経費: 14,600千円、間接経費: 4,380千円); 2025年度: 4,030千円 (直接経費: 3,100千円、間接経費: 930千円); 2024年度: 6,110千円 (直接経費: 4,700千円、間接経費: 1,410千円); 2023年度: 8,840千円 (直接経費: 6,800千円、間接経費: 2,040千円)
• キーワード: 異材界面 / 原子再配列 / 薄膜 / 高秩序化 / 結晶構造

研究開始時の研究の概要

本研究では，高周波電流を利用した金属-半導体間の異材界面における原子の再配列を世界で初めて実現する．これは，電子と原子の力学的相互作用，すなわち電子風力を原子配列の「揺さぶり」として作用させることにより，自発的に原子を最小ポテンシャルエネルギーの位置へと再配列させる極めて独創的な手法である．これにより，結晶方位の整列，結晶粒の増大，最密結晶面の増加，点・線欠陥の消滅を誘起し，前人未到の異材界面における原子配列制御を実現し，半導体製造プロセスにおける原子スケール界面制御手法を創出する．