研究課題
基盤研究(B)
レーザー直接描画手法は,照射部走査によって付加的に材料を連続形成していくプロセスであり,これまでに微細電極やセンサーなどが形成されてきた.集光部では光重合や熱焼結などが起こり有用なプロセスであるが,その適用は感光性材料に限定されてきた.この強い材料制限に対し,我々は,超広域材料選択性を有するレーザー描画手法を開発してきた.この手法は,集光部で起こる特異的な光駆動対流に基づいており,我々はその機構解明を進めてきた.本研究では,これまでの我々の提案仮説を元に,集光部で光析出する金属形状をマイクロ3D化し,対流の起源となるバブル表面の巨大温度勾配の制御を行う.