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分子集積を介した非破壊的面外ドーピングに基づく二次元層状材料デバイスの自在制御

研究課題

研究課題/領域番号 23K26492
補助金の研究課題番号 23H01799 (2023)
研究種目

基盤研究(B)

配分区分基金 (2024)
補助金 (2023)
応募区分一般
審査区分 小区分28030:ナノ材料科学関連
研究機関東京農工大学

研究代表者

生田 昂  東京農工大学, 工学(系)研究科(研究院), 助教 (80805929)

研究分担者 正井 宏  東京大学, 大学院総合文化研究科, 助教 (70793149)
細見 拓郎  東京大学, 大学院工学系研究科(工学部), 助教 (40830360)
研究期間 (年度) 2023-04-01 – 2026-03-31
研究課題ステータス 交付 (2024年度)
配分額 *注記
19,110千円 (直接経費: 14,700千円、間接経費: 4,410千円)
2025年度: 3,640千円 (直接経費: 2,800千円、間接経費: 840千円)
2024年度: 4,550千円 (直接経費: 3,500千円、間接経費: 1,050千円)
2023年度: 10,920千円 (直接経費: 8,400千円、間接経費: 2,520千円)
キーワードグラフェン / 二次元層状化合物 / デバイス特性制御
研究開始時の研究の概要

本研究では、グラフェンをはじめとする二次元層状化合物に対し、分子修飾によるデバイス特性の制御方法の確立を目指す。具体的には、修飾分子の分子骨格と移動度向上の関係性を明らかにし、グラフェンや二硫化モリブデンなどの二次元層状材料群に対して、分子膜によるデバイス特性の自在制御を実現する。さらに分子の自己組織化を利用し分子膜の配列を高次組織化することにより、外部刺激によるデバイス特性の調整や新たなデバイス機能の発現を目指す。

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公開日: 2023-04-18   更新日: 2024-08-08  

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