| 研究課題/領域番号 |
23KF0049
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| 研究種目 |
特別研究員奨励費
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| 配分区分 | 基金 |
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| 応募区分 | 外国 |
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| 審査区分 |
小区分14010:プラズマ科学関連
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| 研究機関 | 大阪大学 |
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研究代表者 |
浜口 智志 大阪大学, 大学院工学研究科, 教授 (60301826)
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| 研究分担者 |
VINCHON PIERRE 大阪大学, 大学院工学研究科, 外国人特別研究員
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| 研究期間 (年度) |
2023-04-25 – 2025-03-31
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| 研究課題ステータス |
交付 (2023年度)
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| 配分額 *注記 |
2,400千円 (直接経費: 2,400千円)
2024年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
2023年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
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| 研究開始時の研究の概要 |
本研究は、プラズマ支援原子層堆積法（PE-ALD）により、グラフェン及び単層アモルファスカーボン（MAC）の低温成膜を実現することを目標とする。既存の手法では、グラフェン等をCu基板上に成膜するには、基板を1000℃程度の高温で加熱することが必要であったが、将来の２次元半導体デバイスの製造においては、表面温度を300℃以下程度に抑え、且つ、SiO2のような絶縁体基板上にグラフェンを生成することが求められる。本研究では、ベンゼン等前駆体の重合反応を誘起するPE-ALDにおける表面反応機構を、プラズマ実験と数値シミュレーションにより解明し、同PE-ALDの実現を目指す。
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