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究極デバイスとしてのダイヤモンド基板の革新的超精密加工プロセスへのブレークスルー

研究課題

研究課題/領域番号 24226005
研究種目

基盤研究(S)

配分区分補助金
研究分野 生産工学・加工学
研究機関九州大学

研究代表者

土肥 俊郎  九州大学, 産学連携センター, 特任教授 (30207675)

研究分担者 佐野 泰久  大阪大学, 大学院工学研究科, 准教授 (40252598)
黒河 周平  九州大学, 大学院工学研究院, 教授 (90243899)
連携研究者 大西 修  宮崎大学, 工学教育研究部, 准教授 (50315107)
畝田 道雄  金沢工業大学, 工学部, 教授 (00298324)
研究協力者 會田 英雄  並木精密宝石(株), NJC研究所, 所長
研究期間 (年度) 2012-05-31 – 2016-03-31
研究課題ステータス 完了 (2015年度)
配分額 *注記
215,280千円 (直接経費: 165,600千円、間接経費: 49,680千円)
2015年度: 26,910千円 (直接経費: 20,700千円、間接経費: 6,210千円)
2014年度: 26,910千円 (直接経費: 20,700千円、間接経費: 6,210千円)
2013年度: 92,430千円 (直接経費: 71,100千円、間接経費: 21,330千円)
2012年度: 69,030千円 (直接経費: 53,100千円、間接経費: 15,930千円)
キーワードプラズマ融合CMP / 加工効率 / 表面粗さ / 難加工材料 / フェムト秒レーザ / CMP / P-CVM / 疑似ラジカル場 / 超難加工材料 / 疑似ラジカル / 加工レート / 超難加工結晶 / 融合加工装置 / フェムト秒(Fs)レーザ / SiC, GaN, ダイヤモンド / 超押し込み実験 / TEM / PCVM / SiC, GaN, ダイヤモンド / 超押し込み試験
研究成果の概要

グリーンデバイス用ダイヤモンド、GaN、SiCなど超難加工材料の高効率加工技術の確立を目指し、基板に疑似ラジカル場を付与する前処理工程(1)、および世界初の“Plasma fusion CMP(プラズマ融合CMP)”工程(2)を提案した。
(1)フェムト秒レーザ照射によってアモルファス化・微細リップル構造化され、化学的安定している表面が酸化される相乗効果で研磨/CMPが促進されることを明らかにした。
(2)プラズマ融合CMP の2方式機種(A-type:基本型, B-type:挑戦型)を考案・試作した。本加工法で仕上げたダイヤモンド基板へのエピ成長を試みデバイス形成に適す表面であることを実証した。

評価記号
検証結果 (区分)

A

評価記号
評価結果 (区分)

A-: 当初目標に向けて概ね順調に研究が進展しており、一定の成果が見込まれるが、一部に遅れ等が認められるため、今後努力が必要である

報告書

(8件)
  • 2016 研究進捗評価(検証) ( PDF )
  • 2015 実績報告書   研究成果報告書 ( PDF )
  • 2014 実績報告書   研究概要(研究進捗評価) ( PDF )   研究進捗評価(評価結果) ( PDF )
  • 2013 実績報告書
  • 2012 実績報告書
  • 研究成果

    (116件)

すべて 2016 2015 2014 2013 2012 その他

すべて 雑誌論文 (29件) (うち国際共著 9件、 査読あり 26件、 謝辞記載あり 25件、 オープンアクセス 1件) 学会発表 (76件) (うち国際学会 5件、 招待講演 26件) 図書 (7件) 備考 (1件) 産業財産権 (3件)

  • [雑誌論文] High-efficiency planarization method combining mechanical polishing and atmospheric-pressure plasma etching for hard-to-machine semiconductor substrates2016

    • 著者名/発表者名
      Yasuhisa Sano, Kousuke Shiozawa, Toshiro Doi, Hideo Aida, Tadakazu Miyashita and Kazuto Yamauchi
    • 雑誌名

      Mechanical Engineering Journal

      巻: 3 号: 1 ページ: 15-00527-15-00527

    • DOI

      10.1299/mej.15-00527

    • NAID

      130005126182

    • ISSN
      2187-9745
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Analysis fo sapphire-chemical mechanical polishing using digital image processing2016

    • 著者名/発表者名
      Michio Uneda, Keiichi Takano, Koji Koyama, Hideo Aida, Ken-ichi Ishikawa
    • 雑誌名

      Special issue on Micromechatronics ofr Information and Precision Equipment, Mechanical Engineering Journal of 2016 The Japan Society of Mechanical Ingineers

      巻: 3(1) ページ: 1-11

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Fabrication of freestanding heteroepitaxial diamond substrate via micropatterns and microneedles2016

    • 著者名/発表者名
      Hideo Aida, Seong-Woo Kim, Kenjiro Ikejiri, Yuki Kawamata, Koji Koyama1, Hideyuki Kodama, and Atsuhito Sawabe
    • 雑誌名

      Applied Physics Express

      巻: 1

    • NAID

      210000137836

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / オープンアクセス / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] 高効率加工を目指す革新的プラズマ融合CMP技術と難加工材料への適用2016

    • 著者名/発表者名
      土肥俊郎、會田英雄
    • 雑誌名

      光技術コンタクト

      巻: 54(4) ページ: 1-9

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] 革新的概念に基づく超高効率加工技術の構築(ダイラタンシー・パッド工具と液中加工システムによるSiC基板の効果的加工プロセスの確立)2015

    • 著者名/発表者名
      土肥俊郎,瀬下清, 山崎努, 大坪正徳, 西澤秀明, 村上幸, 市川大造, 中村由夫, 宮下忠一, 川村佳秀, 高木正孝, 柏田太志, 曾田英雄
    • 雑誌名

      日本機械学会論文集

      巻: 81 ページ: 1-12

    • NAID

      130005066595

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Investigation of Chemical Mechanical Polishing Mechanism of Hard-to-Process Materials Using Commercially Available Single-Sided Polishier2015

    • 著者名/発表者名
      Michio Uneda, Keiichi Takano, Koji Koyama, Hideo Aida, Ken-ichi Ishikawa
    • 雑誌名

      International Journal of Automation Technology

      巻: 9(5) ページ: 573-579

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Precise Mechanical Polishing of Brittle Materials with Free Diamond Abrasives Dispersed in micro-nano-bubble Water2015

    • 著者名/発表者名
      Hideo AIDA, Seong-Woo KIM, Kenjiro IKEJIRI, Toshiro DOI, Tsutomu YAMAZAKI, Kiyoshi SESHIMO, Koji KOYAMA, Hidetoshi TAKEDA, and Natsuko AOTA
    • 雑誌名

      Precision Engineering

      巻: 40 ページ: 81-86

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書 2014 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Estimation of Substrate Bowing in Hetero-epitaxy at Elevated Temperature by X-ray Diffraction Rocking Curve Measurement2015

    • 著者名/発表者名
      Hideo AIDA, Seong-Woo KIM, and Toshimasa SUZUKI
    • 雑誌名

      J. Cryst. Growth

      巻: 412 ページ: 60-66

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Basic Study on Etching Selectivity of Plasma Chemical Vaporization Machining by Introducing Crystallographic Damage into Work Surface2015

    • 著者名/発表者名
      asuhisa Sano, Toshiro Doi, Syuhei Kurokawa, Hideo Aida, Osamu Ohnishi, Michio Uneda, Yuu Okada, Hiroaki Nishikawa and Kazuto Yamauchi
    • 雑誌名

      Key Engineering Materials

      巻: 625 ページ: 550-553

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Numerically controlled atmospheric-pressure plasma sacrificial oxidation using electrode arrays for improving silicon-on-insulator layer uniformity2015

    • 著者名/発表者名
      H. Takei, K. Yoshinaga, S. Matsuyama, K. Yamauchi, and Y. Sano
    • 雑誌名

      Japanese Journal of Applied Physics

      巻: 54

    • NAID

      210000144748

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Consideration of Femtosecond Laser-induced Effect on Semiconductor Material SiC Substrate for CMP Processing2015

    • 著者名/発表者名
      hengwu WANG, Syuhei KUROKAWA, Toshiro DOI, Yasuhisa SANO, Hideo AIDA, Osamu OHNISHI, Michio UNEDA, Koki OYAMA, Terutake HAYASHI, Ji ZHANG, Asakawa EIJI
    • 雑誌名

      Applied Mechanics and Materials

      巻: 799-800 ページ: 458-462

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 査読あり / 国際共著 / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Approach to High Efficient CMP For Power Device Substrates2014

    • 著者名/発表者名
      Syuhei KUROKAWA, Toshiro DOI, Chengwu W.WANG, Yasuhisa SANO, Hideo AIDA, Koki OYAMA, Kunimitsu TAKAHASHI
    • 雑誌名

      ECS Transactions

      巻: 60 ページ: 641-646

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Novel Chemical Mechanical Polishing/Plasma-Chemical Vaporization Machining (CMP/P-CVM) Combined Processing of Hard-to-Process Crystals Based on Innovative Concepts2014

    • 著者名/発表者名
      Toshiro K. Doi, Yasuhisa Sano, Syuhei Kurowaka, Hideo Aida, Osamu Ohnishi, Michio Uneda and Koki Ohyama
    • 雑誌名

      Sensors and Materials

      巻: 26 ページ: 403-415

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Dependence of GaN Removal Rate of Plasma Chemical Vaporization Machining on Mechanically Introduced Damage2014

    • 著者名/発表者名
      Y.Sano, T.K.Doi, S.Kurokawa, H.Aida, O.Ohnishi, M.Uneda, K.Shiozawa, Y.Okada, K.Yamauchi
    • 雑誌名

      Sensors and Materials

      巻: 26 ページ: 429-434

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Influence of Pad Surface Asperity on Removal Rate in Chemical Mechanical Polishing of Large-Diameter Silicon Wafer Which Applies to Substrate of GaN-based LEDs2014

    • 著者名/発表者名
      Michio UNEDA, Yuki MAEDA, Kazutaka SHIBUYA, Yoshio NAKAMURA, Daizo ICHIKAWA, Kiyomi FUJII, Ken-ichi ISHIKAWA
    • 雑誌名

      Sensors and Materials

      巻: 26 ページ: 435-445

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Special Issue on WUPP for Ⅲ- nitrides2014

    • 著者名/発表者名
      Hideo Aida
    • 雑誌名

      Sensors and Materials

      巻: 26 ページ: 1-1

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Thinning of a two-inch silicon carbide wafer by plasma chemical vaporization machining using a slit electrode2014

    • 著者名/発表者名
      Y.Okada, H.Nishikawa, Y.Sano, K.Yamaura, K.Yamauchi
    • 雑誌名

      Materials Science Forum

      巻: 788-780 ページ: 750-753

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] グリーンデバイス用難加工材料(SiC, GaN, ダイヤモンド゙)基板の革新的加工プロセス技術、2014

    • 著者名/発表者名
      土肥俊郎
    • 雑誌名

      月刊トライボロジー

      巻: 28 ページ: 16-18

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Evaluation of subsurface damage in GaN substrate induced by mechanical polishing with diamond abrasives2014

    • 著者名/発表者名
      Hideo AIDA, Hidetoshi TAKEDA, Seong-Woo KIM, Natsuko AOTA, Koji KOYAMA, Tsutomu YAMAZAKI, Toshiro DOI
    • 雑誌名

      Appl. Surf. Science

      巻: 292 ページ: 531-536

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Surface Planarization of GaN-on-Sapphire Template by Chemical Mechanical Polishing for Subsequent GaN Homoepitaxy2014

    • 著者名/発表者名
      Hideo AIDA, Seong-woo KIM, Toshimasa SUZUKI, Koji KOYAMA, Natsuko AOTA, Toshiro DOI, Tsutomu YAMAZAKI
    • 雑誌名

      ECS Journal of Solid State Science and Technology

      巻: 3 ページ: 163-168

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Basic Study on Etching Selectivity of Plasma Chemical Vaporization Machining by Introducing Crystallographic Damage into Work Surface2014

    • 著者名/発表者名
      Yasuhisa Sano, Toshiro Doi, Syuhei Kurokawa, Hideo Aida, Osamu Ohnishi, Michio Uneda, Yuu Okada, Hiroaki Nishikawa, Kazuto Yamauchi
    • 雑誌名

      Key Engineering Materials

      巻: 625 ページ: 550-553

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] N-Face Finishing Influence on Geometry of Double-Side Polished GaN Substrate2014

    • 著者名/発表者名
      Koji KOYAMA, Hideo AIDA, Michio UNEDA, Hidetoshi TAKEDA, Seong-Woo KIM, Hiroki TAKEI, Tsutomu YAMAZAKI, and Toshiro DOI
    • 雑誌名

      Int. J. Automation Technology

      巻: 8 ページ: 121-127

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書 2013 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Growth of Thick GaN Layers on Laser-processed Sapphire Substrate by Hydride Vapor Phase Epitaxy2014

    • 著者名/発表者名
      Koji KOYAMA, Hideo AIDA, Seong-Woo KIM, Kenjiro IKEJIRI, Toshiro DOI, Tsutomu YAMAZAKI
    • 雑誌名

      J. Crystal Growth

      巻: 403 ページ: 38-42

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] N-Face Finishing Influence on Geometry of Double-Side Polished GaN Substrate2014

    • 著者名/発表者名
      Koji Koyama, Hideo Aida, Michio Uneda, Hidetoshi Takeda, Seong-Woo Kim, Hiroki Takei, Tsutomu Yamazaki, Toshiro Doi
    • 雑誌名

      International Journal of Automation Technology

      巻: 8 ページ: 121-127

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 査読あり / 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] サファイアCMPにおける研磨メカニズムの分析2014

    • 著者名/発表者名
      畝田道雄,高野圭市,小山浩司,會田英雄,片倉春治,武居裕樹,石川憲一
    • 雑誌名

      2014年度砥粒加工学会学術講演会講演論文集

      巻: 1 ページ: 2-2

    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 謝辞記載あり
  • [雑誌論文] Novel Chemical Mechanical Polishing/Plasma-Chemical Vaporization Machining [CMP/P-CVM] Combined Processing of Hard-to-Process Crystals Based on Innovative Concepts2014

    • 著者名/発表者名
      T. K. Doi, Y. Sano, S. Kurokawa, Hideo Aida, Osamu Ohnishi, Michio Uneda, Koki Ohyama
    • 雑誌名

      Sensors & Materials

      巻: 未定

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Evaluation of subsurface damage in GaN substrate induced by mechanical polishing with diamond abrasives2014

    • 著者名/発表者名
      H. AIDA, H. TAKEDA, S.-W. KIM, N. AOTA, K. KOYAMA, T. YAMAZAKI, and T. DOI
    • 雑誌名

      Appl. Surf. Sci

      巻: 292 ページ: 531-536

    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Current Status and Future Prospects of GaN Substrates for Green Devices2013

    • 著者名/発表者名
      Toshiro Doi
    • 雑誌名

      Sensor and Materials

      巻: Vol.25, No.3 ページ: 141-154

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] The Effects of Strong Oxidizing Slurry and Processing Atmosphere on Double-sided CMP of SiC Wafer2012

    • 著者名/発表者名
      Tao YIN, Toshiro DOI, Syuhei KUROKAWA, Osamu OHNISHI, Tsutomu YAMAZAKI, Zhida WANG, and Zhe TAN
    • 雑誌名

      Advanced Materials Research

      巻: Vols.591-593 ページ: 1131-1134

    • DOI

      10.4028/www.scientific.net/amr.591-593.1131

    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] 先端的難加工基板の高能率精密加工法の研究(第6報)-fsレーザ照射による疑似ラジカルば形成基板表面のCMP研磨特性-2016

    • 著者名/発表者名
      黒河周平、王成武、土肥俊郎、佐野泰久、會田英雄、大山幸希
    • 学会等名
      2016年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      東京理科大学野田キャンパス
    • 年月日
      2016-03-15
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] 革新的CMP/P-CVM融合装置の設計・試作(第10報)-基本型装置(A型)によるダイヤモンドの加工-2016

    • 著者名/発表者名
      佐野泰久, 土肥俊郎, 黒河周平, 會田英雄, 大山幸希, 宮下忠一, 住澤春男, 宮崎俊亘, 山内 和人
    • 学会等名
      2016年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      東京理科大学野田キャンパス
    • 年月日
      2016-03-15
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] 革新的CMP/P-CVM融合装置の設計・試作(第11報)-B-Type装置によるGaN基板加工特性とその加工メカニズム-2016

    • 著者名/発表者名
      大山幸希、土肥俊郎、西澤秀明、會田英雄、佐野泰久、黒河周平山崎直
    • 学会等名
      2016年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      東京理科大学野田キャンパス
    • 年月日
      2016-03-15
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] 革新的CMP/P-CVM融合装置の設計・試作(第12報)-B-Type装置によるダイヤモンド基板とその加工メカニズム-2016

    • 著者名/発表者名
      西澤秀明、土肥俊郎、大山幸希、會田英雄、佐野泰久、黒河周平、金聖祐
    • 学会等名
      2016年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      東京理科大学野田キャンパス
    • 年月日
      2016-03-15
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] 革新的プラズマ融合CMP技術の提案とDiamond基板の加工2016

    • 著者名/発表者名
      西澤秀明、土肥俊郎、會田英雄、黒河周平、佐野泰久
    • 学会等名
      第31回精密加工プロセス研究会
    • 発表場所
      リファレンス駅東ビル(福岡)
    • 年月日
      2016-02-25
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] A New ”Dilatancy Pad” and its Polishing Characteristics for SiC Substrates including Sapphire2015

    • 著者名/発表者名
      Toshiro Doi
    • 学会等名
      The 7th Xihu Swording Salon
    • 発表場所
      Hangzhou(中国)
    • 年月日
      2015-12-24
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] 結晶基板の加工プロセス設計と高効率加工へのブレークスルー2015

    • 著者名/発表者名
      土肥俊郎
    • 学会等名
      第20回結晶工学セミナー 「基板の加工と評価が切り拓くSi, SiC, GaN結晶の基盤技術」
    • 発表場所
      学習院創立百周年記念会館
    • 年月日
      2015-12-10
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] GaN結晶の研磨加工技術2015

    • 著者名/発表者名
      曾田英雄
    • 学会等名
      応用物理学会結晶工学分科会第20回結晶工学分科セミナー
    • 発表場所
      学習院創立百周年記念会館
    • 年月日
      2015-12-10
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] GaNなど化合物半導体結晶における加工欠陥形成の観察2015

    • 著者名/発表者名
      會田英雄, 武田秀俊
    • 学会等名
      日本学術振興会 第145委員会 第146回研究会
    • 発表場所
      明治大学 駿河台キャンパス
    • 年月日
      2015-11-26
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] SF6ガスを用いたサブ大気圧プラズマエッチングによるSiC基板の高能率加工2015

    • 著者名/発表者名
      田尻光毅,井上裕貴,佐野泰久,松山智至,山内和人
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会第2回講演会
    • 発表場所
      大阪国際交流センター
    • 年月日
      2015-11-09
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] Optimization of Machining Conditions of Basic-Type CMP/P-CVM Fusion Processing Using SiC Substrate2015

    • 著者名/発表者名
      Yasuhisa Sano, Kousuke Shiozawa, Toshiro Doi, Syuhei kurokawa, Hideo Aida, Koki Oyama, Tadakazu Miyashita, Haruo Sumizawa, Kazuto Yamauchi
    • 学会等名
      2015 International Conference on Planarization/CMP Technology (ICPT2015)
    • 発表場所
      アリゾナ(米国)
    • 年月日
      2015-09-30
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] SF6ガスを用いたサブ大気圧プラズマエッチングによる SiC 基板の高能率加工, 田尻光毅2015

    • 著者名/発表者名
      田尻光毅,井上裕貴,佐野泰久,松山智至,山内和人
    • 学会等名
      第76回応用物理学会秋季学術講演会
    • 発表場所
      名古屋国際会議場
    • 年月日
      2015-09-13
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] 触媒表面基準エッチング法によるSiCおよびGaN基板の平坦化2015

    • 著者名/発表者名
      佐野泰久, 有馬健太, 山内和人
    • 学会等名
      表面技術協会第132回講演大会
    • 発表場所
      信州大学長野キャンパス
    • 年月日
      2015-09-09
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] 革新的CMP/P-CVM融合装置の設計・試作(第8報) -基本型装置(A型)によるダイヤモンド加工の基礎検討-2015

    • 著者名/発表者名
      佐野泰久,塩澤昂祐,土肥俊郎,黒河周平,會田英雄,大山幸希,宮下忠一,山内和人
    • 学会等名
      2015年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • 発表場所
      東北大学川内北キャンパス
    • 年月日
      2015-09-04
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] 数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化法における酸化特性2015

    • 著者名/発表者名
      武居弘泰,栗生賢,松山智至,山内和人,佐野泰久
    • 学会等名
      2015年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • 発表場所
      東北大学川内北キャンパス
    • 年月日
      2015-09-04
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] 数値制御大気圧プラズマ犠牲酸化法における酸化膜厚制御の精度向上2015

    • 著者名/発表者名
      栗生賢,武居弘泰,松山智至,佐野泰久,山内和人
    • 学会等名
      2015年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • 発表場所
      東北大学川内北キャンパス
    • 年月日
      2015-09-04
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] 革新的 “Plasma fusion CMP装置”の設計・試作(第9報) -ダイヤモンド単結晶基板の加工特性-2015

    • 著者名/発表者名
      西澤秀明,大山幸希,土肥俊郎,曾田英雄,金 聖祐,佐野泰久,黒河周平,王 成武
    • 学会等名
      2015年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • 発表場所
      東北大学川内北キャンパス
    • 年月日
      2015-09-04
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] 「オプトメカトロニクス産業を支える超精密加工/CMP」の来し方行く末2015

    • 著者名/発表者名
      土肥俊郎
    • 学会等名
      GNG創立25周年記念講演会
    • 発表場所
      銀座ブロッサム
    • 年月日
      2015-07-17
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] High-efficiency planarization method for hard-to-machine semiconductor substrates combining mechanical polishing and atmospheric-pressure plasma etching2015

    • 著者名/発表者名
      Yasuhisa Sano, Kousuke Shiozawa, Toshiro Doi, Syuhei Kurokawa, Hideo Aida, Tadakazu Miyashita, and Kazuto Yamauchi
    • 学会等名
      2015 JSME-IIP/ASME-ISPS Joint Conference on Micromechatronics for Information and Precision Equipment
    • 発表場所
      神戸国際会議場
    • 年月日
      2015-06-14
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] サブ大気圧プラズマを用いたプラズマエッチングによる2インチSiC基板の高能率加工2015

    • 著者名/発表者名
      田尻光毅,岡田悠,佐野泰久,松山智至,山内和人
    • 学会等名
      精密工学会関西支部2015年度関西地方定期学術講演会
    • 発表場所
      京都工芸繊維大学松ヶ崎キャンパス
    • 年月日
      2015-06-03
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [学会発表] Damage-induced increase of removal rate of atmospheric-pressure plasma etching of diamond substrate2015

    • 著者名/発表者名
      Y.Sano, K. Shiozawa, T. Doi, S. Kurokawa, H. Aida, K. Oyama, T. Miyashita, H. Sumizawa, K. Yamauchi
    • 学会等名
      The 9th International Conference on New Diamonds and Nano Carbons 2015
    • 発表場所
      静岡県コンベンションアーツセンター
    • 年月日
      2015-05-24
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会 / 招待講演
  • [学会発表] Consideration of Femtosecond laser-induced Effect on Semiconductor Material SiC Substrate for CMP Processing2015

    • 著者名/発表者名
      Syuhei Kurokawa, Toshiro Doi, Yasuhisa Sano, Hideo Aida, Osamu Ohnishi, Michio Uneda, Koki Ohyama, Terutake Hayashi, Ji Zhang, Asakawa Eiji
    • 学会等名
      2015 ASR Bali Conferences(ICMMT2015/ICRE2015/ICLB2015)
    • 発表場所
      Bali, Indonesia
    • 年月日
      2015-05-09
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
    • 国際学会
  • [学会発表] Innovation in Chemical Mechanical Polishing(CMP): Plasma Fusion CMP for Highly Efficient Processing of Next-Generation Optoelectronics Single Crystals2015

    • 著者名/発表者名
      Hideo Aida, Toshiro Doi, Yasuhisa Sano, Syuhei Kurokawa, Seong Woo Kim, Koki Oyama, Tadakazu Miyashita, Michio Uneda, Osamu Ohnishi, Chengwu Wang
    • 学会等名
      The 8th Manufacturing Institute for Research on Advanced Initiatives
    • 発表場所
      Taiwan
    • 年月日
      2015-03-25 – 2015-03-26
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] 革新的plasma fusion CMP装置の設計・試作(第6報)― 基本型(A型)の平坦化特性についての詳細な検討-2015

    • 著者名/発表者名
      塩澤昂祐,平岡佑太,佐野泰久,土肥俊郎,黒河周平,會田英雄,大山幸希,宮下忠一,住澤春男,山内和人
    • 学会等名
      2015年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      東洋大学白山キャンパス(東京都文京区)
    • 年月日
      2015-03-17 – 2015-03-19
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] 革新的plasma fusion CMP装置の設計・試作(第7報)― plasma fusion CMP装置”(B型)による加工メカニズムの検討―2015

    • 著者名/発表者名
      塩澤昂祐,平岡佑太,佐野泰久,土肥俊郎,黒河周平,會田英雄,大山幸希,宮下忠一,住澤春男,山内和人
    • 学会等名
      2015年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      東洋大学白山キャンパス(東京都文京区)
    • 年月日
      2015-03-17 – 2015-03-19
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Polishing properties of SiC wafer due to the different processing atmosphere2015

    • 著者名/発表者名
      張 吉,黒河 周平,林 照剛,王 成武,浅川 英志
    • 学会等名
      日本機械学会 九州支部 第68期 総会講演会
    • 発表場所
      福岡大学(福岡県福岡市)
    • 年月日
      2015-03-13
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] モノづくりの起源”研磨”からCMP,そして将来-先端的超難加工材料の高効率加工へのブレークスルー2015

    • 著者名/発表者名
      土肥俊郎
    • 学会等名
      2015年度砥粒加工学会先進テクノフェア(ATF2015)
    • 発表場所
      (独)産業技術総合研究所(東京都江東区)
    • 年月日
      2015-03-06
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] 加工雰囲気の違いによるSiC ウエハの研磨特性2014

    • 著者名/発表者名
      張 吉,黒河 周平,林 照剛,王 成武,浅川 英志
    • 学会等名
      2014年度 精密工学会 九州支部 鹿児島地方講演会
    • 発表場所
      鹿児島大学(鹿児島県)
    • 年月日
      2014-12-06
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] PCVM (Plasma Chemical Vaporization Machining) による2インチSiC基板の薄化―加工速度の向上を目的とした電極の開発2014

    • 著者名/発表者名
      岡田悠,田尻光毅,佐野泰久,松山智至,山内和人
    • 学会等名
      応用物理学会 先進パワー半導体分科会 第1回講演会
    • 発表場所
      ウインクあいち(愛知県名古屋市)
    • 年月日
      2014-11-19 – 2014-11-20
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] "KENMA", the Origin of Manufacturing, Planarization CMP and Its Future -A Breakthrough toward High-efficient Machining of Hard-to-machine Innovative Materials -2014

    • 著者名/発表者名
      土肥俊郎
    • 学会等名
      2014 International Conference on Planarization/CMP Technology (ICPT2014)
    • 発表場所
      神戸国際会議場(兵庫県神戸市)
    • 年月日
      2014-11-19 – 2014-11-20
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Development of Basic-Type CMP/P-CVM Fusion Processing System (Type A) and Its Fundamental Characteristics2014

    • 著者名/発表者名
      K. Shiozawa, Y. Sano, T. Doi, S. Kurokawa, H. Aida, K. Oyama, T. Miyashita, H. Sumizawa, and K. Yamauchi
    • 学会等名
      2014 International Conference on Planarization/CMP Technology (ICPT2014)
    • 発表場所
      神戸国際会議場(兵庫県神戸市)
    • 年月日
      2014-11-19 – 2014-11-20
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Processing Characteristics of SiC Wafer by Consideration of Oxidation Effect in Different Atmospheric Environment2014

    • 著者名/発表者名
      Ji ZHANG, Syuhei KUROKAWA, Terutake HAYASHI, Eiji ASAKAWA, and Chengwu WANG
    • 学会等名
      2014 International Conference on Planarization/CMP Technology (ICPT2014)
    • 発表場所
      神戸国際会議場(兵庫県神戸市)
    • 年月日
      2014-11-19 – 2014-11-20
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Study on a novel CMP/P-CVM fusion processing system(Type B) and its basic characteristics2014

    • 著者名/発表者名
      Koki Oyama, Toshiro K. Doi, Yasuhisa Sano, Syuhei Kurokawa, Hideo Aida, Tadakazu Miyashita, Seongwoo Kim, Hideakli Nishizawa, Tsutomu Yamazaki
    • 学会等名
      2014 International Conference on Planarization/CMP Technology (ICPT2014)
    • 発表場所
      神戸国際会議場(兵庫県神戸市)
    • 年月日
      2014-11-19 – 2014-11-20
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] 超難加工材料の高能率加工へのブレークスルー2014

    • 著者名/発表者名
      大山幸希
    • 学会等名
      一般社団法人ニューダイヤモンドフォーラム平成26年度第2回研究会
    • 発表場所
      東京工業大学(東京都9
    • 年月日
      2014-10-03
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] 革新的CMP/P-CVM融合装置の設計・試作(第4報);A-type装置による炭化ケイ素を加工対象とした平坦化特性の評価2014

    • 著者名/発表者名
      塩澤昂祐,佐野泰久,土肥俊郎,黒河周平,會田 英雄,大山 幸希,宮下 忠一,山内 和人
    • 学会等名
      2014年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • 発表場所
      鳥取大学(鳥取県)
    • 年月日
      2014-09-16 – 2014-09-18
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] 革新的 CMP/P-CVM加工装置の設計・試作(第5報)- B-type装置による各種難加工材料の基本的加工特性とその評価 -2014

    • 著者名/発表者名
      大山 幸希, 土肥 俊郎, 佐野 泰久, 黒河 周平, 會田 英雄, 塩澤 昂祐, 宮下 忠一, 金 聖祐
    • 学会等名
      2014年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • 発表場所
      鳥取大学(鳥取県)
    • 年月日
      2014-09-16 – 2014-09-18
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] 革新的CMP/P-CVM 融合加工法の提案とその加工特性-ワイドギャップ結晶材料の高効率加工へのブレークスルー-2014

    • 著者名/発表者名
      大山 幸希, 土肥 俊郎, 佐野 泰久, 會田 英雄,黒河 周平, 金 聖祐, 宮下 忠一
    • 学会等名
      日本機械学会2014 年度年次大会
    • 発表場所
      東京電機大学(東京都)
    • 年月日
      2014-09-10
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] 研磨の見える化(評価技術)とその技術動向2014

    • 著者名/発表者名
      畝田道雄
    • 学会等名
      精密工学会プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会主催「CMP技術の基礎を理解するサマーキャンプ2014」
    • 発表場所
      新宿ワシントンホテル
    • 年月日
      2014-08-30
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] CMPのサイエンス化に向けて-消耗副資材(スラリー・研磨パッド)からのアプローチ-2014

    • 著者名/発表者名
      畝田道雄
    • 学会等名
      先進研磨技術研究会第5回講演会
    • 発表場所
      キャンパスプラザ京都(京都府)
    • 年月日
      2014-08-27
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Investigation of Polishing Mechanism of Sapphire-CMP Using Commercially Available Single-Sided Polisher2014

    • 著者名/発表者名
      Michio Uneda
    • 学会等名
      Workshop on Ultra-Precision Processing (WUPP) for Wide-gap Semiconductors 2014
    • 発表場所
      Hilton Bath City Hotel (英国)
    • 年月日
      2014-08-20 – 2014-08-22
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Design and Prototyping of Innovative CMP/P-CVM Fusion Processing Machine for Hard-to-Process Crystals and Its Processing Characteristics2014

    • 著者名/発表者名
      Toshiro Doi
    • 学会等名
      Workshop on Ultra-Precision Processing (WUPP) for Wide-gap Semiconductors 2014
    • 発表場所
      Hilton Bath City Hotel (英国)
    • 年月日
      2014-08-20 – 2014-08-22
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] High-speed Etching of Wide-gap Semiconductors Using Atmospheric Pressure Plasma2014

    • 著者名/発表者名
      Y. Sano
    • 学会等名
      Workshop on Ultra-Precision Processing (WUPP) for Wide-gap Semiconductors 2014
    • 発表場所
      Hilton Bath City Hotel (英国)
    • 年月日
      2014-08-20 – 2014-08-22
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] サファイア・GaN基板の加工・研磨技術とその応用2014

    • 著者名/発表者名
      小山浩司,畝田道雄,小堀康之
    • 学会等名
      日本テクノセンター主催セミナー
    • 発表場所
      日本テクノセンター(東京都)
    • 年月日
      2014-07-27
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] Removal Rate of Plasma Chemical Vaporization Machining of Intentionally Damaged Surface by Mechanical Action2014

    • 著者名/発表者名
      K. Shiozawa, Y. Sano, T. Doi, S. Kurokawa, H. Aida, O. Ohnishi, M. Uneda, Y. Okada, and K. Yamauchi
    • 学会等名
      15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014)
    • 発表場所
      ホテル日航金沢(石川県金沢市)
    • 年月日
      2014-07-22 – 2014-07-25
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [学会発表] 次世代半導体基板のダメージフリー加工法2014

    • 著者名/発表者名
      佐野泰久
    • 学会等名
      第33回電子材料シンポジウム(EMS-33)
    • 発表場所
      ラフォーレ修善寺(静岡県伊豆市)
    • 年月日
      2014-07-09
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] 加工変質層を残さない超精密加工法2014

    • 著者名/発表者名
      佐野泰久
    • 学会等名
      精密工学会 第365回講習会
    • 発表場所
      東京理科大学(東京)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Fabrication of Gallium Nitride Substrate with Novel Approaches –Internally Focused Laser Processing for Crystal Growth and Advanced CMP for Wafering–2014

    • 著者名/発表者名
      H. AIDA, T. DOI, H. TAKEDA, K. KOYAMA, S. KUROKAWA, Y. SANO
    • 学会等名
      EMN Spring 2014
    • 発表場所
      Hotel. red rock(米国・ラスベガス)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] グリーンデバイスとしてのSiC, GaN, ダイヤモンド基板とその加工プロセス技術2014

    • 著者名/発表者名
      土肥俊郎
    • 学会等名
      砥粒加工学会「先端加工井フォーラムとやま2014」
    • 発表場所
      富山大学(富山)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Approach to High Efficient CMP for Power Device Substrates2014

    • 著者名/発表者名
      H. AIDA, K. OYAMA, and K. TAKAHASHI
    • 学会等名
      Semiconductor Technology International Conference 2014
    • 発表場所
      Shanghai New Internatinal Expo Centre(中国・上海)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] 革新的CMP/P-CVM融合装置の設計・試作(第1報)―装置化の基本のコンセプトと試作装置―2014

    • 著者名/発表者名
      土肥俊郎、佐野泰久、黒河周平、曾田英雄
    • 学会等名
      2014年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      東京大学
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] 革新的CMP/P-CVM融合装置の設計・試作-基本型融合加工装置(A-type)とその基本特性-2014

    • 著者名/発表者名
      塩澤昂祐, 佐野泰久, 土肥俊郎, 黒河周平, 會田英雄, 宮下忠一, 住澤春男, 山内和人
    • 学会等名
      2014年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      東京大学
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Removal Rate of Plasma Chemical Vaporization Machining of Intentionally Damaged Surface by Mechanical Action2014

    • 著者名/発表者名
      K. Shiozawa, Y. Sano, T. Doi, S. Kurokawa, H. Aida, O.Ohnishi, M. Uneda, Y. Okada, and K. Yamauchi
    • 学会等名
      15th International Conference on Precision Engineering (ICPE2014)
    • 発表場所
      石川県政記念しいのき迎賓館(石川)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Basic Study on Etching Selectivity of Plasma Chemical Vaporization Machining by Introducing Crystallographic Damage into Work Surface2014

    • 著者名/発表者名
      Y. Sano, T. Doi, S. Kurokawa, H. Aida, O. Ohnishi, M. Uneda, Y. Okada, H. Nishikawa, and K. Yamauchi
    • 学会等名
      5th International Conference of Asian Society for Precision Engineering and Nanotechnology (ASPEN2013)
    • 発表場所
      Howard Civil International Centre(台湾)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Development of the innovative CMP/P-CVM combined apparatus (basic type)2014

    • 著者名/発表者名
      K. Shiozawa, Y. Sano, T. Doi, S. Kurokawa, H. Aida, T. Miyashita, H. Sumizawa and K. Yamauchi
    • 学会等名
      International Conference on Planarization/CMP Technology 2014 (ICPT2014)
    • 発表場所
      神戸国際会議場(兵庫)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Progress and Challenges for Chemical Mechanical Polishing of Gallium Nitride2013

    • 著者名/発表者名
      H. AIDA, T. DOI, T.YAMAZAKI, H. TAKEDA, and K.KOYAMA
    • 学会等名
      Material Research Society 2013 Spring meeting
    • 発表場所
      Public Outreach Center(米国)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Laser-Processed Substrate for Stress Reduction in Heteroepitaxy2013

    • 著者名/発表者名
      H. AIDA, H. TAKEDA, N.AOTA, K.IKEJIRI, S.-Woo KIM, K. KOYAMA, T. DOI, and T. Yamazaki.
    • 学会等名
      2013 Collaborative Conference on Crystal Growth (3CG)
    • 発表場所
      The WESTIN Resort&Spa(メキシコ)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] 先端的難加工基板の高効率精密加工法の研究(第4報)-加工変質層の断面TEM による評価とそのPCVM加工特性-2013

    • 著者名/発表者名
      塩澤昂祐, 佐野泰久, 土肥俊郎, 黒河周平, 會田英雄, 大西修, 畝田道雄, 岡田悠, 山内和人
    • 学会等名
      2013年度精密工学会秋季大会学術講演会
    • 発表場所
      関西大学
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Growth of Thick GaN Layers on Laser-Processed Sapphire Substrate by Hydride Vapor Phase Epitaxy2013

    • 著者名/発表者名
      H. AIDA, S.-Woo KIM, K. IKEJIRI, K. KOYAMA, T. DOI, and T. YAMAZAKI
    • 学会等名
      International Workshop on Bulk Nitride Semiconductors
    • 発表場所
      Kloster Seeon(ドイツ)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Advanced high efficient precision processing method based on the III-N semiconductor processing-A proposal of a process with new concepts for hard-to-process crystal wafers2013

    • 著者名/発表者名
      T. Doi, Y. Sano, S. Kurokawa, H. Aida
    • 学会等名
      WUPP for III-Nitride 2013
    • 発表場所
      The BEST WESTERN PLUS(米国)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Diamond Substrate Planarization Polishing Technique2013

    • 著者名/発表者名
      K. OYAMA, T. DOI, H. AIDA, S. KUROKAWA, Y.SANO, H. TAKEDA, K. KOYAMA, T. YAMAZAKI, and K. TAKAHASHI
    • 学会等名
      International Conference on Planarization/CMP Technology
    • 発表場所
      Ambassador Hotel (台湾)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] Formation and Evaluation of Quasi-radical Site Induced by Femtosecond Laser on the Surface of Diamond2013

    • 著者名/発表者名
      C. WANG, S. KUROKAWA, S. KOMAI, H. AIDA, K. OYAMA, K. TAKAHASHI, Y. SANO, K. TSUKAMOTO, and Toshiro DOI
    • 学会等名
      the 13th International Symposium on Aerospace Technology
    • 発表場所
      サンポートホール高松(香川)
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [学会発表] ダィヤモンド基板の窒化物半導体デバイスヘの応用-ダイヤモンド基板の平坦化研磨技術-2013

    • 著者名/発表者名
      大山幸希・武田秀俊・小山浩司・曾田英雄・土肥俊郎
    • 学会等名
      日本機械学会 IIIP2013 情報・知能・精密機器部門(IIP部門)講演会
    • 発表場所
      東洋大学
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Processing Properties of Strong Oxidizing Slurry and Effect of Processing Atmosphere in SiC-CMP2012

    • 著者名/発表者名
      Tao YIN, Toshiro DOI, Syuhei KUROKAWA, Osamu OHNISHI, Tsutomu YAMAZAKI, Zhida WANG, and Zhe TAN
    • 学会等名
      International Conference on Planarization/CMP Technology 2012
    • 発表場所
      Grenoble, France
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] SiC-CMP Processing Characteristics under Different Atmospheres Using MnO2 Slurry with Strong Oxidant2012

    • 著者名/発表者名
      Zhe TAN, Toshiro DOI, Syuhei KUROKAWA, Osamu OHNISHI, Tsutomu YAMAZAKI, and Tao YIN
    • 学会等名
      Advanced Metallization Conference 2012
    • 発表場所
      東京大学
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Characteristics of Sapphire CMP Under Various Gas Conditions Using Bell-Jar Type CMP Machine2012

    • 著者名/発表者名
      Takateru EGASHIRA, Toshiro DOI, Syuhei KUROKAWA, Osamu OHNISHI, Michio UNEDA, Isamu KOSHIYAMA, and Daizo ICHIKAWA
    • 学会等名
      Advanced Metallization Conference 2012
    • 発表場所
      東京大学
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] GaN Substrate for Post-Silicon Power Devices -Surface and Subsurface Damage Evaluation for GaN Substrate Prepared by Chemical Mechanical Polishing-2012

    • 著者名/発表者名
      Koji KOYAMA, Hideo AIDA, Junya NAKATA, Takuhiro SUGIYAMA, Aki TOSAKA, Yukichi SHIGETA, Hidetoshi TAKEDA, Natsuko AOTA, Toshiro DOI, Tsutomu YAMAZAKI
    • 学会等名
      6th Int'l Symposium on Advanced Science and Technology of Silicon Materials (JSPS Si Symposium)
    • 発表場所
      Kona, U.S.A
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] Advanced Sapphire Substrate Technology for III-Nitride Epitaxy for LEDs2012

    • 著者名/発表者名
      Hideo AIDA
    • 学会等名
      Forum LEDs
    • 発表場所
      Paris, France
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] Chemical mechanical polishing of inorganic crystals and its application for organic photonics crystals2012

    • 著者名/発表者名
      Hideo AIDA, Toshiro DOI, Haruji KATAKURA, Jun TAKAHASHI, and Tsutomu YAMAZAKI
    • 学会等名
      12th Int'l Symp. Advanced Organic Photonics (ISAOP-12)
    • 発表場所
      Naha, Okinawa
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] SiC・GaN基板の新しい加工技術

    • 著者名/発表者名
      佐野泰久
    • 学会等名
      名古屋大学グリーンモビリティ連携研究センター第8回次世代自動車公開シンポジウム
    • 発表場所
      ポートメッセなごや
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] グリーンデバイス用結晶基盤の加工プロセス技術の研究開発

    • 著者名/発表者名
      山崎努
    • 学会等名
      精密加工会「プラナリゼーションCMPとその応用技術専門委員会」
    • 発表場所
      幕張メッセ
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] 大気圧プラズマを用いたSiC及び関連材料の高能率無歪加工

    • 著者名/発表者名
      佐野泰久
    • 学会等名
      日本学術振興会「結晶加工と評価技術」第145委員会第132回研究会
    • 発表場所
      明治大学
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
    • 招待講演
  • [学会発表] グリーンデバイス用結晶基板の加工プロセス技術の研究開発 -第1報-

    • 著者名/発表者名
      土肥俊郎、山崎努、瀬下清、市川大造
    • 学会等名
      2013年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] グリーンデバイス用結晶基板の加工プロセス技術の研究開発 -第2報-

    • 著者名/発表者名
      山崎努、土肥俊郎、瀬下清、大坪正徳、塚本敬一、紀文勇、若林豊博、住澤春男
    • 学会等名
      2013年度精密工学会春季大会
    • 発表場所
      東京工業大学
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] 先端的難加工基板の高効率精密加工法の研究(第1報)-新しい概念を導入した加工プロセスの提案-

    • 著者名/発表者名
      土肥俊郎、佐野泰久、黒河周平、曾田秀雄、大西修、畝田道雄
    • 学会等名
      2013年度精密工学会春季大会
    • 発表場所
      東京工業大学
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] 先端的難加工基板の高効率精密加工法の研究(第2報)-疑似ラジカル場を想定した加工変質層の形成によるPCVM加工速度の増大-

    • 著者名/発表者名
      佐野泰久、土肥俊郎、黒河周平、曾田秀雄、大西修、畝田道雄、岡田悠、西川央明、山内和人
    • 学会等名
      2013年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [学会発表] PCVM (Plasma Chemical Vaporization Machining) による2インチSiC 基板の全面加工

    • 著者名/発表者名
      岡田悠・西川央明・佐野泰久・山村和也・松山智至・山内和人
    • 学会等名
      2013年度精密工学会春季大会学術講演会
    • 発表場所
      東京工業大学
    • 関連する報告書
      2012 実績報告書
  • [図書] New Diamond Vol.322016

    • 著者名/発表者名
      會田英雄、土肥俊郎、佐野泰久、黒河周平、大山幸希、金聖祐
    • 総ページ数
      2
    • 出版者
      (社)ニューダイヤモンドフォーラム
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [図書] Advances in Chemical Mechanical Planarization (CMP)2016

    • 著者名/発表者名
      Hideo Aida
    • 総ページ数
      27
    • 出版者
      Elsevier
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [図書] 機械の研究Vol672015

    • 著者名/発表者名
      佐野泰久
    • 総ページ数
      7
    • 出版者
      養賢堂
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [図書] 光技術コンタクトVol.682015

    • 著者名/発表者名
      會田英雄、青田奈津子、武田秀俊
    • 総ページ数
      7
    • 出版者
      (社)日本オプトメカトロニクス協会
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [図書] Handbook of Ceramics Grinding and Polishing(2E)2014

    • 著者名/発表者名
      T.Doi, I.D.Marinescu, E.Uhlmann
    • 総ページ数
      544
    • 出版者
      elsevier
    • 関連する報告書
      2014 実績報告書
  • [図書] Chemical-Mechanical Machining Process / Handbook of Manufacturing Engineering & Technology(Chap.4-3)2014

    • 著者名/発表者名
      T. Doi
    • 総ページ数
      12
    • 出版者
      Springer-Velag London
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [図書] 精密加工と微細構造の形成技術2013

    • 著者名/発表者名
      會田英雄, 武田秀俊、土肥俊郎
    • 総ページ数
      17
    • 出版者
      技術情報協会
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [備考] ニュースレター:No.3(4月発行), No.4(12月発行), No.5(3月発行)

    • URL

      http://www.astec.kyushu-u.ac.jp/doi/achievements/index.html

    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [産業財産権] 「プラズマ融合CMP」「plasma fusion CMP」2016

    • 発明者名
      土肥俊郎、佐野泰久、黒河周平、不二越機械工業、並木精密宝石
    • 権利者名
      土肥俊郎、佐野泰久、黒河周平、不二越機械工業、並木精密宝石
    • 産業財産権種類
      実用新案
    • 出願年月日
      2016-03-01
    • 関連する報告書
      2015 実績報告書
  • [産業財産権] 加工方法及び該方法を用いる複合加工装置並びに該方法または該装置により加工された加工物2014

    • 発明者名
      佐野, 土肥, 黒河、會田, 大山, 宮下
    • 権利者名
      佐野, 土肥, 黒河、會田, 大山, 宮下
    • 産業財産権種類
      特許
    • 出願年月日
      2014-02-25
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書
  • [産業財産権] 加工方法及び該方法を用いる複合加工装置並びに該方法または該装置により加工された加工物2014

    • 発明者名
      土肥、佐野、宮下、曾田、大山
    • 権利者名
      土肥、佐野、宮下、曾田、大山
    • 産業財産権種類
      特許
    • 出願年月日
      2014-02-25
    • 関連する報告書
      2013 実績報告書

URL: 

公開日: 2012-11-27   更新日: 2019-07-29  

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