| 研究課題/領域番号 |
24246013
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
薄膜・表面界面物性
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
福谷 克之 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (10228900)
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| 研究分担者 |
笠井 秀明 大阪大学, 工学(系)研究科(研究院), 教授 (00177354)
関場 大一郎 筑波大学, 数理物質系, 講師 (20396807)
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| 連携研究者 |
ビルデ マーカス 東京大学, 生産技術研究所, 准教授 (10301136)
小倉 正平 東京大学, 生産技術研究所, 助教 (10396905)
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| 研究期間 (年度) |
2012-04-01 – 2016-03-31
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| 研究課題ステータス |
完了 (2016年度)
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| 配分額 *注記 |
45,760千円 (直接経費: 35,200千円、間接経費: 10,560千円)
2015年度: 7,410千円 (直接経費: 5,700千円、間接経費: 1,710千円)
2014年度: 12,350千円 (直接経費: 9,500千円、間接経費: 2,850千円)
2013年度: 13,650千円 (直接経費: 10,500千円、間接経費: 3,150千円)
2012年度: 12,350千円 (直接経費: 9,500千円、間接経費: 2,850千円)
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| キーワード | 表面 / 水素 / スピン / 固体表面 / 異方性 |
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| 研究成果の概要 |
本研究では，水素原子・分子線を開発し，表面での散乱・反応におけるスピン状態分布をレーザー共鳴分光法を用いて観測することで，水素と表面の相互作用の詳細を明らかにした． PdとTiO2表面では，水素原子の微視的な拡散機構を調べその原子的メカニズムを明らかにした．AgおよびPd表面について，水素分子お核スピン3重項と1重項状態を選別して熱脱離スペクトルを測定することで，両者に明確な違いがあることを見出した．SrTiO3とTiO2表面での水素分子の散乱を調べ，核スピン状態に応じて散乱角度分布に違いがあることを見出した．理論解析から，これらが相互作用ポテンシャルの異方性に起因することを明らかにした．
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